[发明专利]锑和/或铋纳米片、锑烯和/或铋烯及其制法和用途

权利要求书

1.制备锑纳米片材料和/或铋纳米片材料的方法，其特征在于，所述方法至少包括以下步骤：

将初始原料混合物置于100～300℃的反应温度下反应不少于3小时的反应时间后，经洗涤、干燥即得所述锑纳米片材料和/或铋纳米片材料；

所述初始原料混合物包括IA族金属氯盐、氯化铝、锑氧化物和/或铋氧化物、铝粉；

所述锑纳米片材料和/或铋纳米片材料的厚度分布度ΔD/D_max为0.5～0.8之间的任意值；

其中，ΔD＝D_max—D_min；

D_max表示锑纳米片材料和/或铋纳米片材料中，最厚的锑纳米片材料和/或铋纳米片材料的厚度；

D_min表示锑纳米片材料和/或铋纳米片材料中，最薄的锑纳米片材料和/或铋纳米片材料的厚度。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述锑纳米片材料和/或铋纳米片材料的厚度范围为10～100nm之间的任意范围。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述锑纳米片材料和/或铋纳米片材料的厚度范围为10～95nm。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述锑纳米片材料和/或铋纳米片材料的厚度范围为10～90nm。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述锑纳米片材料和/或铋纳米片材料的厚度为10nm～80nm。

6.制备锑烯材料和/或铋烯材料的方法，其特征在于，所述方法至少包括以下步骤：

将初始原料混合物置于100～300℃的反应温度下反应不少于3小时的反应时间后，经洗涤、干燥、超声即得所述锑烯材料和/或铋烯材料；

所述初始原料混合物包括IA族金属氯盐、氯化铝、锑氧化物和/或铋氧化物、铝粉；

所述锑烯材料和/或铋烯材料的厚度分布度Δd/d_max为0.07～0.3之间的任意值；

其中，Δd＝d_max—d_min；

d_max表示锑烯材料和/或铋烯材料中，最厚的锑烯材料和/或铋烯材料的厚度；

d_min表示锑烯材料和/或铋烯材料中，最薄的锑烯材料和/或铋烯材料的厚度。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述锑烯材料和/或铋烯材料的厚度范围为0.5～1.5nm之间的任意范围。

8.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述锑烯材料和/或铋烯材料的厚度为0.75～1.33nm。

9.根据权利要求6所述的方法，其特征在于所述锑烯材料和/或铋烯材料的厚度为0.79～1.2nm。

10.根据权利要求1或6所述的方法，其特征在于，所述初始原料混合物中包括：

5～25重量份的IA族金属氯盐；

40～70重量份的氯化铝；

10～35重量份的锑氧化物和/或铋氧化物；

3～15重量份的铝粉。

11.根据权利要求1或6所述的方法，其特征在于，所述初始原料混合物中包括：

10～20重量份的NaCl和/或KCl；

40～50重量份的氯化铝；

15～30重量份的锑氧化物和/或铋氧化物；

5～12重量份的铝粉。

12.根据权利要求1或6所述的方法，其特征在于，所述反应温度为115℃～300℃；

所述反应时间为3～8小时。

13.根据权利要求1或6所述的方法，其特征在于，所述反应时间为4～6小时。