[发明专利]一种光学制件均匀性干涉检测方法

权利要求书

1.一种光学制件均匀性干涉检测方法，其特征在于，包括如下步骤：

S1激光束经分束器(3)分为测试光束和普通光束，所述测试光束通过装有折射率匹配溶液(7)的透明槽(6)后，与普通光束发生干涉形成相干光束，该相干光束的干涉条纹数为N_mo；所述折射率匹配溶液(7)与待测光学制件(8)材料的折射率相同；

S2将待测光学制件(8)浸入折射率匹配溶液(7)中，激光束经分束器(3)分为测试光束和普通光束，所述测试光束通过装有待测光学制件(8)和折射率匹配溶液(7)的透明槽(6)后，与普通光束发生干涉形成相干光束，该相干光束的干涉条纹数为N_mt；

S3由浸入待测光学制件(8)前后的干涉条纹数计算得到待测光学制件(8)的折射率偏差，根据该折射率偏差即可得到待测光学制件(8)的均匀性情况。

2.如权利要求1所述的光学制件均匀性干涉检测方法，其特征在于，所述测试光束通过透明槽(6)后，由平面反射镜(9)反射沿原路经透明槽(6)回到分束器(3)处；所述普通光束经过补偿板(5)后，由第二平面反射镜(4)反射沿原路经补偿板(5)回到分束器(3)处，并与同样回到分束器(3)处的测试光束发生干涉；所述分束器(3)到平面反射镜(9)和到第二平面反射镜(4)的距离相等。

3.如权利要求2所述的光学制件均匀性干涉检测方法，其特征在于，所述补偿板(5)的折射率和厚度与所述分束器(3)相同。

4.如权利要求3所述的光学制件均匀性干涉检测方法，其特征在于，所述S3中通过下式计算待测光学制件(8)的折射率偏差Δn(x,y)：

其中，ΔN_m＝N_mt-N_mo，λ为激光束波长，d(x,y)为待测光学制件(8)的厚度。

5.如权利要求1所述的光学制件均匀性干涉检测方法，其特征在于，所述测试光束通过透明槽(6)后，由平面反射镜(9)反射至第二分束器(12)处；所述普通光束由第二平面反射镜(4)反射至第二分束器(12)处，并与同样在第二分束器(12)处的测试光束发生干涉；所述测试光束和普通光束从分束器(3)到第二分束器(12)所经的距离相等。

6.如权利要求5所述的光学制件均匀性干涉检测方法，其特征在于，所述S3中通过下式计算待测光学制件(8)厚度方向的折射率偏差Δn(x,y)：

其中，ΔN_m＝N_mt-N_mo，λ为激光束波长，d(x,y)为待测光学制件(8)的厚度。

7.如权利要求1所述的光学制件均匀性干涉检测方法，其特征在于，采用溴代萘、乙醇和蔗糖配置折射率匹配溶液(7)。

8.如权利要求1-7任一项所述的光学制件均匀性干涉检测方法，其特征在于，检测温度为20℃。