[发明专利]一种A-π-D-π-A结构双光子聚合引发剂及其制备方法有效
申请号: | 201911029115.2 | 申请日: | 2019-10-28 |
公开(公告)号: | CN110746522B | 公开(公告)日: | 2022-01-18 |
发明(设计)人: | 张帅;李尚耕;徐嘉靖;尹强;万翔宇;朱方华;李娃;王宇光 | 申请(专利权)人: | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 |
主分类号: | C08F2/46 | 分类号: | C08F2/46;C07D279/22;C07D209/86 |
代理公司: | 北京远大卓悦知识产权代理有限公司 11369 | 代理人: | 贾晓燕 |
地址: | 621000 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 结构 光子 聚合 引发 及其 制备 方法 | ||
本发明公开一种A‑π‑D‑π‑A结构双光子聚合引发剂及其制备方法,包括:包括如下步骤:步骤一、对原料吩噻嗪和3,6‑二溴‑9H‑咔唑通过取代反应加入十二烷基进行保护;对吩噻嗪进行溴代反应,引入对位溴;步骤二、对步骤一所得结果进行Sonogashira偶联反应,引入炔羟基团;步骤三、对步骤二所得产物,进行去保护,去除羟基;步骤四、对步骤三所得结果进行Sonogashira偶联反应,引入功能吸电子基团。研究了本发明的引发剂的光学性质和双光子聚合性能,结果表明,最佳性能的引发剂在50mw的激光功率下,聚合过程中扫描速度可达2000μm/s。
技术领域
本发明属于微纳制造及化工技术领域,具体涉及一种A-π-D-π-A结构双光子聚合引发剂及其制备方法。
背景技术
双光子效应是一种三阶非线性效应。在1931年,Goppert-Mayer理论上预测该分子在强光激发下会发生双光子吸收(TPA)。但是,直到高能激光器出现,研究人员才观察到TPA现象。当光照射强度达到兆瓦量级时,物质才可能会发生双光子吸收。由于双光子吸收一次吸收两个光子的特殊性质,衍生出了很大基于这一效应的应用。双光子光聚合(TPP)三维(3D)增材制造是双光子吸收的最重要应用之一。由于TPA强度与入射光强度的平方成正比,而且如果调控激光强度,使只有焦点处的强度达到发生TPA所需的光子密度,那么TPA就被限制在入射光波长立方的一小部分,这样所引发的化学反应也只发生在这一区域,因此TPA具有高度的空间选择性和更高的分辨率。另外,TPA光源的波长是近红外光,可以有效减少激光的瑞利散射损失和介电吸收,并且不损害生物材料。这样就更扩宽了双光子聚合增材制造的应用。
然而,双光子聚合增材制造的大量应用还面临一些问题。在这一过程中,在将光引发剂与单体树脂混合后,在激光的作用下引发单体的聚合。光引发剂的效率会直接影响聚合效果以及制造速率和分辨率。但是,当前的双光子光引发剂仍然相对效率低下,不足以用于大量应用。因此,高效双光子引发剂的研究非常重要。
发明内容
本发明的一个目的是解决至少上述问题和/或缺陷,并提供至少后面将说明的优点。
为了实现根据本发明的这些目的和其它优点,提供了一种A-π-D-π-A结构双光子聚合引发剂,所述引发剂由吩噻嗪或咔唑分子,通过碳碳三键作为共轭键桥,连接二苯甲酮或芴酮基团,构成A-π-D-π-A结构,其分子结构式为:
本发明还提供一种如上述的A-π-D-π-A结构双光子聚合引发剂的制备方法,包括以下步骤:
步骤一、对原料吩噻嗪和3,6-二溴-9H-咔唑通过取代反应加入烷基进行保护;并且对吩噻嗪进行溴代反应,引入对位溴;
步骤二、对步骤一的产物进行Sonogashira偶联反应,引入炔羟基团;
步骤三、对步骤二的产物进行去保护,去除羟基;
步骤四、对步骤三的产物进行Sonogashira偶联反应,引入功能吸电子基团。
优选的是,所述步骤一的过程为:将贮存于矿物油中的NaH缓慢加入冷却至0~5℃的含有吩噻嗪的DMF溶液中,10~30分钟后,缓慢加入1-溴代十二烷;将所得溶液在0~5℃下搅拌过夜,再缓慢加入去离子水;搅拌半小时后,用乙酸乙酯萃取,然后用柱色谱法纯化,使用体积比为40:1的石油醚和乙酸乙酯为洗脱剂,得到10-十二烷基-10H-吩噻嗪,为浅黄色油状物;
向冷却至0~10℃的含有10-十二烷基-10H-吩噻嗪和DCM的溶液中缓慢加入NBS,将所得悬浮液在0~10℃下搅拌过夜,然后,缓慢加入去离子水并搅拌20~40分钟,然后,加入饱和盐水并萃取,得到有机相;然后用硫酸镁干燥,过滤,除去溶剂,然后进行柱色谱法纯化,使用体积比为40:1的石油醚:乙酸乙酯为洗脱剂,得到3,7-二溴-10-十二烷基-吩噻嗪;为浅黄色油状物;
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国工程物理研究院激光聚变研究中心,未经中国工程物理研究院激光聚变研究中心许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201911029115.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。