[发明专利]一种基于卤化物钙钛矿的光敏电容器及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201911029462.5 申请日: 2019-10-28
公开(公告)号: CN110828177B 公开(公告)日: 2021-10-01
发明(设计)人: 李明晗;胡子阳;诸跃进 申请(专利权)人: 宁波大学
主分类号: H01G7/00 分类号: H01G7/00
代理公司: 杭州五洲普华专利代理事务所(特殊普通合伙) 33260 代理人: 丁少华
地址: 315211 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 卤化物 钙钛矿 光敏 电容器 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种基于卤化物钙钛矿的光敏电容器,其特征在于:包括依次层状分布的导电衬底、绝缘层、钙钛矿层、PCBM层以及金属电极层,钙钛矿层在光照发生离子迁移,PCBM层对迁移的离子进行捕获,改变金属电极层和透明导电衬底之间的内建电场,从而改变金属电极层和透明导电衬底之间的介电常数,钙钛矿层厚度为300-500nm,PCBM层厚度为钙钛矿层厚度的10-30%,金属电极层厚度为50-100nm,卤化物钙钛矿层材质选用CsPbX3,X为I、Br、Cl中一种或者几种的组合。

2.根据权利要求1所述的基于卤化物钙钛矿的光敏电容器,其特征在于:金属电极层为与CsPbX3能级相匹配的Au电极。

3.一种如权利要求1或2所述的基于卤化物钙钛矿的光敏电容器的制备方法,其特征在于:包括如下步骤:步骤①:在导电衬底表面旋涂钙钛矿前驱液,加热处理在导电衬底表面形成钙钛矿层;步骤②:在钙钛矿层表面制备PCBM层;步骤③:在PCBM层上蒸镀金属电极层。

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