[发明专利]一种地氯雷他定药物的制备方法及其制剂有效

专利信息
申请号: 201911032110.5 申请日: 2019-10-28
公开(公告)号: CN110638750B 公开(公告)日: 2021-08-27
发明(设计)人: 吴光美;任鹏;李红组;唐邦忠 申请(专利权)人: 深圳市贝美药业有限公司
主分类号: A61K9/08 分类号: A61K9/08;A61K47/12;A61K31/4545;A61P37/08;C07D401/04
代理公司: 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 方宇
地址: 518051 广东省深圳市南山区粤海街道科*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 种地 药物 制备 方法 及其 制剂
【说明书】:

本发明涉及一种地氯雷他定药物的制备方法及其制剂,包括以下步骤:将有机酸盐加入助溶剂溶解,再加入原料药地氯雷他定混合反应;将药用辅料用主溶剂溶解,再与上述反应后的混合液进行混合,得到所述地氯雷他定药物。本发明通过在地氯雷他定制剂的制备过程中,先加高活性有机多元羧酸盐对地氯雷他定的活性部位进行占位保护,实验证明这样制备出来的口服溶液有关物质完全合格,且长期放置贮存,稳定性大大提高,杂质无异常增大的情况,该方法既解决了工艺杂质的问题,又保证了药品的稳定性。

技术领域

本发明涉及医药技术领域,尤其涉及一种地氯雷他定药物的制备方法及其制剂。

背景技术

地氯雷他定是氯雷他定在体内脱甲酸乙酯而得的活性代谢产物。地氯雷他定是新型第3代抗组胺药,抗过敏作用强,起效快且效力持久。许多临床试验也已经证实了地氯雷他定对成人或儿童的过敏性鼻炎(AR)和慢性特发性荨麻诊(CIU)的疗效和安全性,有着良好的应用前景。

Sunovion Pharmaceuticals(原名Sepracor)于1997年发现该化合物,并拥有化合物的专利权,美国专利US4659716首次对地氯雷他定进行了详细的描述,并于1997年12月独家授权Schering-Plough(先灵葆雅),2001年1月17日欧洲注册,适应症为季节性过敏性鼻炎,2001年8月10日增加适应症荨麻疹,主要为片剂和口服溶液剂,同年12月21日在美国注册,适应症为季节性过敏性鼻炎,2003年12月31日在中国批准上市,适应症为过敏性鼻炎,主要为片剂。

在中国市场上,主要为五种细分剂型如片剂、分散片、胶囊、干混悬剂和糖浆剂,2016年国家评价性的抽检地氯雷他定制剂质量,发现以下问题:按法定标准检验,103批样品不合格批数为2批,不合格项目为有关物质,主要原因为现行标准不完善;按自行建立的方法检验,不合格批数为8批,不合格项目同样为有关物质,主要原因为提高了杂质限度。国内地氯雷他定制剂质量与原研样品相比仍有一定的提高的空间。现行标准基本可行,但仍需完善和提高,以控制生产过程,提升药品质量。

然而,研究发现地氯雷他定是仲胺类化合物,对酸和糖类物质敏感,极易发生Maillard反应而产生甲酰化地氯雷他定。专利CN106957349对地氯雷他定杂质制备进行了报道,但是均没有提出具体的减小杂质的解决方案。

地氯雷他定的水溶性差,片剂、分散片、干混悬剂需要添加乳糖、蔗糖等辅料进行填充分散,糖浆剂、口服溶液剂需要添加有机醇类溶剂助溶,若处理不好,均会在制剂的制备过程中出现较大的工艺杂质,制备的制剂在放置过程中也会导致杂质变大。因此,迫切需要研究出新的制备工艺,解决以上问题。

发明内容

基于此,有必要提供一种地氯雷他定药物的制备方法,该方法制备得到的地氯雷他定药物有关物质完全合格,且长期放置贮存,稳定性大大提高,杂质无异常增大的情况,此方法既解决了工艺杂质的问题,又保证了药品的稳定性提高。

一种地氯雷他定药物的制备方法,包括以下步骤:

将有机酸盐加入助溶剂溶解,再加入原料药地氯雷他定混合反应;

将药用辅料用主溶剂溶解,再与上述反应后的混合液进行混合,得到所述地氯雷他定药物。

在其中一个实施例中,所述有机酸盐为多元羧酸盐,所述多元羧酸盐的结构如式(Ⅰ)所示:

所述R分别独立的选自单键、C1~C3烷基、C1~C3烯基、C1~C3烷基醇基、C1~C3烯醇基;所述n为1~3的整数,所述M为金属离子;

所述式(Ⅰ)所示的多元羧酸盐与式(Ⅱ)所示的地氯雷他定反应的方程式如下:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市贝美药业有限公司,未经深圳市贝美药业有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201911032110.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top