[发明专利]改善激光发射源的方法、激光发射源以及光刻系统

权利要求书

1.一种改善激光发射源的方法，其特征在于，包括：提供一放电腔，所述放电腔内通入有气体，对所述放电腔施加一激光发射电压以及一脉冲电压，使得所述气体放电，产生激光。

2.如权利要求1所述的改善激光发射源的方法，其特征在于，所述激光发射电压为调制的射频电压。

3.如权利要求2所述的改善激光发射源的方法，其特征在于，所述对所述放电腔施加一激光发射电压以及一脉冲电压的步骤具体为：通过在相邻的两段所述调制的射频电压之间施加所述脉冲电压，用以缩短起辉时间。

4.如权利要求3所述的改善激光发射源的方法，其特征在于，所述放电腔内设有相互平行设置的两个平行板，所述气体位于两个所述平行板之间。

5.如权利要求4所述的改善激光发射源的方法，其特征在于，所述激光发射电压和所述脉冲电压施加在两个所述平行板中的任意一个平行板上。

6.一种激光发射源，其特征在于，包括：放电腔、位于所述放电腔内部的调制器、与所述放电腔连通的气源、以及分别与所述调制器连接的直流脉冲电源和高压控制器；

所述气源用于向所述调制器内部通入气体，所述高压控制器用于对所述调制器施加激光发射电压，使得所述气体在所述激光发射电压的作用下放电；

所述直流脉冲电源用于对所述调制器施加脉冲电压，缩短起辉时间。

7.如权利要求6所述的激光发射源，其特征在于，还包括：过滤器，所述过滤器的输入端与所述气源连接，所述过滤器的输出端与所述调制器连接，所述过滤器用于对所述气源输出的气体进行过滤。

8.如权利要求7所述的激光发射源，其特征在于，还包括：总控制器，分别与所述总控制器连接的监控模块和光学器件模组，所述监控模块用于向所述总控制器输入预设的激光的基本参数信息；所述总控制器用于根据其接收到的所述预设的激光的基本参数信息控制所述气源向所述调制器输送的气体，控制所述高压控制器向所述调制器施加所述激光发射电压，使得所述气体放电产生激光并输出，以及控制所述光学器件模组对其接收到的激光进行选择，得到具有单一频率的激光并输出；

所述监控模块还用于对接收到的具有单一频率的激光进行调整，得到所述预设的激光并输出。

9.如权利要求8所述的激光发射源，其特征在于，所述预设的激光的基本参数信息包括：所述预设的激光的波长、频率和功率。

10.一种光刻系统，其特征在于，包括：如权利要求6至9中任意一项所述的激光发射源。