[发明专利]处理烃类裂解炉管内表面的方法

权利要求书

1.一种处理烃类裂解炉管内表面的方法，其中，所述方法包括以下步骤：

(1)对烃类裂解炉管内表面进行挤压研磨处理，得到预处理裂解炉管；

(2)在处理气体存在下，且加压条件下，对预处理裂解炉管的内表面进行第一氧化处理和第二氧化处理；

所述处理气体包括H₂和水蒸气；

所述第一氧化处理的条件包括：所述处理气体中，H₂与水蒸气的摩尔比为2×10³-1×10⁷；所述第一氧化处理温度为800-1100℃；所述第一氧化处理时间为5-50小时；

所述第二氧化处理的条件包括：所述处理气体中，H₂与水蒸气的摩尔比为80-200；所述第二氧化处理温度为800-1100℃；所述第二氧化处理时间为5-50小时；

所述挤压研磨处理的方式为：将磨料装入裂解炉管内，在压力作用下，磨料在炉管内进行往复运动以实现对裂解炉管内表面的挤压研磨；

所述挤压研磨的条件包括：挤压研磨的压力为0.5-15MPa；挤压研磨的时间为5-3600秒；

所述加压条件为0.3-0.5MPa。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述裂解炉管的元素组分包括：铬12-50wt％，镍20-50wt％，锰0.2-3wt％，硅0-3wt％，碳0.75wt％，微量元素和痕量元素0-5wt％，铁0-67.05wt％。

3.根据权利要求1所述的方法，其中，所述裂解炉管的元素组分包括：铬15-40wt％，镍30-50wt％，锰0.3-2wt％，硅0-2.5wt％，碳0.60wt％，微量元素和痕量元素0.1-3wt％，铁2.4-53.7wt％。

4.根据权利要求2所述的方法，其中，所述微量元素选自铌、钛、钨、铝和稀土元素中的至少一种。

5.根据权利要求2所述的方法，其中，所述痕量元素是硫或/和磷。

6.根据权利要求1所述的方法，其中，所述挤压研磨的条件包括：挤压研磨的压力为1-12MPa；挤压研磨的时间为10-1800秒。

7.根据权利要求1所述的方法，其中，所述磨料由磨粒和液态载体组成。

8.根据权利要求7所述的方法，其中，相对于磨料的总重量，所述磨粒的用量为10-80wt％；所述液态载体的用量为20-90wt％。

9.根据权利要求8所述的方法，其中，相对于磨料的总重量，所述磨粒的用量为40-80wt％；所述液态载体的用量为20-60wt％。

10.根据权利要求7所述的方法，其中，所述磨粒选自氧化钨、氧化铈、氧化铬、氧化铝、碳化硅、碳化硼和金刚石中的至少一种。

11.根据权利要求7所述的方法，其中，所述磨粒的粒度为40-1000目。

12.根据权利要求11所述的方法，其中，所述磨粒的粒度为200-1000目。

13.根据权利要求7所述的方法，其中，所述液态载体选自凡士林、石蜡、松节油和油酸中的一种或几种。

14.根据权利要求1-13中任意一项所述的方法，其中，所述处理气体还包括氮气、氩气和氦气中的至少一种。

15.根据权利要求1-13中任意一项所述的方法，其中，所述加压的条件为0.35-0.45MPa。