[发明专利]曝光装置以及物品制造方法

说明书

本发明涉及曝光装置以及物品制造方法。提供在使底板或者基板相对于投影光学系统的像面倾斜地对基板进行扫描曝光的曝光装置中对于得到扩大的焦点深度有利的技术。曝光装置具有对原版进行照明的照明光学系统以及将所述原版的图案投影到基板的投影光学系统，所述曝光装置在使所述原版或者所述基板相对于所述投影光学系统的像面倾斜的状态下，一边对所述原版以及所述基板进行扫描，一边对所述基板进行曝光。曝光装置具有：调整部，调整所述原版或者所述基板相对于所述像面的倾斜；以及控制部，控制所述调整部，所述控制部使所述原版或者所述基板向以使形成于所述基板的拍摄区域上的潜像的错误变小的方式决定的方向倾斜。

技术领域

本发明涉及曝光装置以及物品制造方法，涉及例如在底板或者基板相对于投影光学系统的像面倾斜的状态下对基板进行曝光的曝光装置、以及使用该曝光装置来制造物品的物品制造方法。

背景技术

作为使曝光装置中的焦点深度扩大的手法，已知使掩模的图案成像于光轴方向的不同的位置的FLEX(Focus Latitude Enhancement Exposure，聚焦范围增强曝光)法。当在扫描曝光装置中实施基于FLEX法的曝光时，在基板或者掩模相对于投影光学系统的像面倾斜的状态下被扫描驱动。在基于FLEX法的曝光中，为了在投影光学系统的像面整体得到均匀的焦点深度扩大的效果，需要使照明光学系统的照明视野光圈的开口(狭缝)区域关于沿着与扫描方向正交的方向的直线对称。在基于FLEX法的曝光中，基板载物台倾斜，所以在狭缝区域为非对称的情况下，在与扫描方向正交的方向的各位置处，散焦量发生改变，在拍摄区域内无法得到均匀的焦点深度扩大的效果。

在专利文献1中，提出了在使掩模或者基板倾斜的情况下，控制由于远心度在狭缝的跟前侧和后侧发生改变而产生的彗形像差，从而使拍摄区域内的焦点深度扩大的效果变均匀的手法。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2009-164296号公报

发明内容

在当前状况下，用扫描曝光装置实施基于FLEX法的曝光时的焦点深度扩大的效果不充分，期望得到改善。

根据本发明的第1方面，提供一种曝光装置，具有对原版进行照明的照明光学系统以及将所述原版的图案投影到基板的投影光学系统，所述曝光装置在使所述原版或者所述基板相对于所述投影光学系统的像面倾斜的状态下，一边对所述原版以及所述基板进行扫描，一边对所述基板进行曝光，所述曝光装置的特征在于，具有：调整部，调整所述原版或者所述基板相对于所述像面的倾斜；以及控制部，控制所述调整部，所述控制部使所述原版或者所述基板向以使形成于所述基板的拍摄区域上的潜像的错误变小的方式决定的方向倾斜。

根据本发明的第2方面，提供一种物品制造方法，其特征在于，包括：使用上述第1方面的曝光装置对基板进行曝光的工序；以及使在所述工序中被曝光的所述基板显影的工序，从显影后的所述基板制造物品。

根据本发明，例如，提供在使底板或者基板相对于投影光学系统的像面倾斜地对基板进行扫描曝光的曝光装置中对于得到扩大的焦点深度有利的技术。

附图说明

图1是示出实施方式中的扫描曝光装置的结构的图。

图2是说明基于FLEX法的曝光的图。

图3是示出狭缝区域的形状与散焦量的关系的图。

图4是说明散焦系数的计算方法的图。

图5是示出实施方式中的FLEX曝光时的基板的倾斜方向的决定处理的流程图。

图6是说明实施方式中的FLEX曝光时的基板的倾斜方向的决定处理的图。

图7是示出实施方式中的FLEX曝光时的基板的倾斜方向的决定处理的流程图。