[发明专利]表面辅助激光解吸电离法、质量分析方法和质量分析装置

说明书

本发明的一个方面所涉及的表面辅助激光解吸电离法包括：第一工序，其准备具有设置有从一个面(21a)贯通到另一个面(21b)的多个贯通孔(S)的基板(21)、和至少覆盖一个面(21a)的导电层(23)的试样支撑体(2)；第二工序，其将试样(10)载置于试样台(1)，且以另一个面(21b)与试样(10)相对的方式将试样支撑体(2)配置于试样(10)上；和第三工序，其通过向一个面(21a)照射激光(L)，使利用毛细管现象从另一个面(21b)侧经由贯通孔(S)而移动至一个面(21a)侧的试样(10)电离。

本申请是申请日为2016年8月26日、申请号为201680002988.2、 发明名称为表面辅助激光解吸电离法、质量分析方法和质量分析装置 的专利申请的分案申请。

技术领域

本发明涉及表面辅助激光解吸电离法、质量分析方法和质量分析 装置。

背景技术

目前，作为为了进行质量分析等而使生物体试样等试样电离的方 法，已知有基质辅助激光解吸电离法(MALDI：Matrix-Assisted Laser Desorption/Ionization)。MALDI是通过将吸收紫外线激光的称为基质的 低分子量的有机化合物与试样混合并向其照射激光而使试样电离的方 法。根据该方法，能够无损地使对热不稳定的物质或高分子量物质电离(所谓软电离)。然而，在MALDI中，发生来自基质的背景噪声。

因此，作为不使用基质而进行电离的方法，已知有通过使用表面 具有微细的凹凸结构的基板而使试样电离的表面辅助激光解吸电离法 (SALDI：Surface-Assisted LaserDesorption/Ionization)。例如，作为利 用SALDI的试样的电离方法，存在使用表面具有微细的凹部的阳极氧 化多孔氧化铝和阳极氧化多孔硅等作为试样保持面的方法(参照下述专利文献1和2)。在该电离方法中，向具有微细的凹部的试样保持面 滴下分析对象的试样，在干燥后照射激光，由此进行试样的电离。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利第5129628号公报

专利文献2：美国专利6288390号公报

发明内容

发明所要解决的课题

然而，在上述的电离方法中，在滴下试样时，会发生试样相对于 基板的位置偏移，因此，在原样维持试样原来的位置信息(构成试样 的分子的二维分布)的状态下进行试样的电离是困难的。因此，难以 将上述电离方法用于测定在试样区域的各位置何种分子存在多少并将 试样分子的二维分布图图像化的成像质量分析等。另外，即使采用使 试样转印于基板的方式来代替向基板上滴下试样，也存在转印试样时 发生试样相对于基板的位置偏移、或者发生试样的转印不匀这样的问 题。

因此，本发明的一个方面的目的在于：提供能够在原样维持试样 的位置信息的状态下进行试样的电离的表面辅助激光解吸电离法、质 量分析方法和质量分析装置。

解决课题的技术手段

本发明的一个方面所涉及的表面辅助激光解吸电离法包括：第一 工序，其准备具有设置有从一个面贯通到另一个面的多个贯通孔的基 板、和由导电性材料构成且至少覆盖一个面的导电层的试样支撑体； 第二工序，其将试样载置于试样台，且以另一个面与试样相对的方式， 将试样支撑体配置于试样上；和第三工序，其通过向一个面照射激光， 使利用毛细管现象从另一个面侧经由贯通孔而移动至一个面侧的试样 电离。