[发明专利]一种磁控溅射机台有效
| 申请号： | 201911037058.2 | 申请日： | 2019-10-29 |
| 公开（公告）号： | CN112725747B | 公开（公告）日： | 2022-10-18 |
| 发明（设计）人： | 佘鹏程;胡凡;陈庆广;范江华;彭浩 | 申请（专利权）人： | 中国电子科技集团公司第四十八研究所 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/56 |
| 代理公司： | 湖南兆弘专利事务所(普通合伙) 43008 | 代理人： | 徐好 |
| 地址： | 410111 湖南*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 磁控溅射 机台 | ||
1.一种磁控溅射机台，包括缓存腔、传送腔、以及设于缓存腔和传送腔之间的过渡腔(1)，其特征在于：所述过渡腔(1)内设有冷却台(2)以及与冷却台(2)同轴布置的双层片架(3)，过渡腔(1)靠近缓存腔和传送腔的侧壁上均设有传片通道(11)，所述传片通道(11)的高度大于冷却台(2)台面的高度，所述双层片架(3)连接有升降驱动机构(4)，所述升降驱动机构(4)与所述过渡腔(1)之间密封配合，所述双层片架(3)包括环形支架(31)、多个片托(32)以及多个安装座(33)，所述环形支架(31)设于所述冷却台(2)外周，所述升降驱动机构(4)与环形支架(31)相连，多个所述安装座(33)沿环形支架(31)的圆周方向布置，多个所述片托(32)一一对应的安装于多个安装座(33)上，片托(32)上设有上层水平承托部(321)和下层水平承托部(322)，所述冷却台(2)侧壁上与片托(32)对应处设有避让槽(21)。
2.根据权利要求1所述的磁控溅射机台，其特征在于：所述上层水平承托部(321)配设有上层倾斜引导部(323)，所述下层水平承托部(322)配设有下层倾斜引导部(324)。
3.根据权利要求1所述的磁控溅射机台，其特征在于：所述安装座(33)上设有沿环形支架(31)径向布置的滑槽(331)，所述片托(32)设于所述滑槽(331)内。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的磁控溅射机台，其特征在于：所述过渡腔(1)内设有大圆弧部(12)、小圆弧部(13)、以及用于连接大圆弧部(12)和小圆弧部(13)的过渡部(14)，所述大圆弧部(12)和小圆弧部(13)相对布置，所述冷却台(2)位于大圆弧部(12)内，所述升降驱动机构(4)与双层片架(3)位于小圆弧部(13)内的一侧相连。
5.根据权利要求1至3中任一项所述的磁控溅射机台，其特征在于：所述过渡腔(1)上设有透明顶盖(5)。
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