[发明专利]阵列透镜、透镜天线和电子设备

权利要求书

1.一种阵列透镜，其特征在于，包括：

至少一介质层；

至少两层阵列结构，所述介质层与所述阵列结构沿第一方向交替层叠设置；每一层所述阵列结构包括金属本体，所述金属本体上开设有多个相互间隔且呈二维阵列设置的缝隙单元，所述缝隙单元包括第一缝隙和环绕所述第一缝隙且与所述第一缝隙间隔设置的第二缝隙，所述第一缝隙和所述第二缝隙均贯穿所述金属本体，所述至少两层阵列结构位于同一相对位置的多个所述缝隙单元在所述第一方向上同轴设置；所述二维阵列的阵列方向包括行方向和列方向；

其中，同一所述阵列结构中，多个所述第一缝隙在所述行方向和所述列方向中的至少一个具有相对于所述阵列方向渐变的相对旋转角度。

2.根据权利要求1所述的阵列透镜，其特征在于，同一所述阵列结构中，多个所述第一缝隙在所述行方向上具有渐变的相对旋转角度。

3.根据权利要求2所述的阵列透镜，其特征在于，同一所述阵列结构中，多个所述第一缝隙在所述行方向的相对旋转角度由所述二维阵列的第一中心线向阵列边缘对称增加，且在所述列方向的相对旋转角度相同。

4.根据权利要求2所述的阵列透镜，其特征在于，同一所述阵列结构中，多个所述第一缝隙在所述列方向上具有渐变的相对旋转角度。

5.根据权利要求4所述的阵列透镜，其特征在于，同一所述阵列结构中，多个所述第一缝隙在所述行方向的所述相对旋转角度由所述二维阵列的第一中心线向阵列边缘对称增加，在所述列方向的所述相对旋转角度由所述二维阵列的第二中心线向阵列边缘对称增加。

6.根据权利要求1-5任一项所述的阵列透镜，其特征在于，同一所述阵列结构中，多个所述第一缝隙在所述行方向和所述列方向中的至少一个具有渐变的第一缝隙尺寸。

7.根据权利要求6所述的阵列透镜，其特征在于，同一所述阵列结构中，多个所述第一缝隙的第一缝隙尺寸在所述行方向上由所述二维阵列的第一中心线向阵列边缘对称减小，或/和同一所述阵列结构中，多个所述第一缝隙的第一缝隙尺寸在所述列方向上由所述二维阵列的第二中心线向阵列边缘对称减小。

8.根据权利要求1所述的阵列透镜，其特征在于，多层所述阵列结构中同轴设置的多个所述第一缝隙在第一方向上具有渐变的第一缝隙尺寸。

9.根据权利要求1所述的阵列透镜，其特征在于，同一所述阵列结构中，多个所述第二缝隙在所述行方向和所述列方向中的至少一个具有渐变的第二缝隙单元尺寸。

10.根据权利要求1所述的阵列透镜，其特征在于，在所述行方向或所述列方向上，相邻两个所述第二缝隙的中心距离相等。

11.根据权利要求1所述的阵列透镜，其特征在于，所述第一缝隙包括至少一矩形缝隙或至少一椭圆形缝隙。

12.根据权利要求11所述的阵列透镜，其特征在于，多个所述矩形缝隙平行设置，且所述矩形缝隙在平行方向上的长度尺寸不同；或，多个所述椭圆形缝隙的长轴平行设置，且所述椭圆形缝隙的长轴尺寸不同。

13.根据权利要求1所述的阵列透镜，其特征在于，所述第一缝隙为圆形缝隙或矩形缝隙。

14.一种透镜天线，其特征在于，包括：

馈源阵列，所述馈源阵列包括多个馈源单元；

与所述馈源阵列平行设置的如权利要求1-13任一所述的阵列透镜。

15.根据权利要求14所述的透镜天线，其特征在于，所述透镜天线还包括平行设置的第一隔离板和第二隔离板，所述馈源阵列和所述透镜设置在所述第一隔离板和第二隔离板之间。