[发明专利]一种真空吸附底座及显示面板绑定用设备有效

专利信息
申请号: 201911039227.6 申请日: 2019-10-29
公开(公告)号: CN110703473B 公开(公告)日: 2022-05-31
发明(设计)人: 李任鹏;刘晓锋 申请(专利权)人: 武汉华星光电技术有限公司
主分类号: G02F1/13 分类号: G02F1/13
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 李新干
地址: 430079 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 真空 吸附 底座 显示 面板 绑定 设备
【权利要求书】:

1.一种真空吸附底座,其特征在于,包括:一载台,所述载台包括用于承载待真空吸附组件的一第一表面以及与所述第一表面相对的一第二表面,所述载台包括与外部真空源连接的一抽真空孔以及与所述抽真空孔连通的一真空腔;多个调节件,可伸缩地设置于所述载台上,以适配所述待真空吸附组件的形态,所有所述调节件呈阵列分布;

所述调节件包括:一本体,所述本体内设置有平行于所述第一表面且贯穿所述本体的一第一真空吸附孔;以及一突出于所述第一表面的第一端,所述第一端内设置有垂直于所述第一表面的一第二真空吸附孔,所述第一真空吸附孔与第二真空吸附孔连通;其中,当所述调节件相对于所述第一表面移动,使所述第一真空吸附孔置于所述真空腔内时,所述第一真空吸附孔与所述真空腔连通,以通过所述第二真空吸附孔将所述待真空吸附组件吸附固定;

所述第一真空吸附孔至所述第一端的距离为所述本体高度的1/4-1/3,以确保所述调节件在未受到外力作用时,所述第一真空吸附孔处于所述第一表面之上,所述第二真空吸附孔不起作用。

2.如权利要求1所述的真空吸附底座,其特征在于,所述调节件还包括:一第一限位件,设置于所述第一端。

3.如权利要求1所述的真空吸附底座,其特征在于,所述调节件还包括:一第二端,突出于所述载台的第二表面;以及一第二限位件,设置于所述第二端。

4.如权利要求1所述的真空吸附底座,其特征在于,所述真空吸附底座还包括一支撑组件;所述支撑组件设置于所述第二表面下方,且所述支撑组件内部具有容置所述调节件的容置腔。

5.如权利要求4所述的真空吸附底座,其特征在于,所述真空吸附底座还包括一驱动组件;所述驱动组件设置于所述容置腔内,用于驱动所述调节件沿垂直所述第一表面方向移动。

6.如权利要求1所述的真空吸附底座,其特征在于,所述真空吸附底座还包括一记录组件,所述记录组件与所有所述调节件相连,用于获取并记录所有所述调节件的伸缩状态,以获取所述真空吸附底座的当前形变状态。

7.一种显示面板绑定用设备,包括:一真空吸附机台,用于吸附固定待绑定组件,所述真空吸附机台包括如权利要求1-6任意一项所述的真空吸附底座。

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