[发明专利]一种显示基板、显示装置及显示基板的制作方法

说明书

本发明提供一种显示基板、显示装置及显示基板的制作方法；其中，所述显示基板包括衬底基板、电极层和像素限定层，所述电极层位于所述衬底基板和所述像素限定层之间，所述像素限定层包括透光区，所述透光区的像素限定层图形环绕所述电极层的电极设置，所述透光区中除所述像素限定层图形之外的区域为镂空区。本发明提供的技术方案解决了现有的显示基板的透光率较低的问题。

技术领域

本发明涉及通信技术领域，尤其涉及一种显示基板、显示装置及显示基板的制作方法。

背景技术

随着科技的迅速发展，屏下感光模组已经成为目前终端设备的主要发展趋势之一。为确保感光模组的感光效果，屏下感光模组需要感光传感器在有限时间内接收到足够的光通量。但是，目前的显示基板的设计，存在透光率较低的问题。

发明内容

本发明实施例提供一种显示基板、显示装置及显示基板的制作方法，以解决现有的显示基板的透光率较低的问题。

为解决上述问题，本发明是这样实现的：

第一方面，本发明实施例提供了一种显示基板，包括衬底基板、电极层和像素限定层，所述电极层位于所述衬底基板和所述像素限定层之间，所述像素限定层包括透光区，所述透光区的像素限定层图形环绕所述电极层的电极设置，所述透光区中除所述像素限定层图形之外的区域为镂空区。

第二方面，本发明实施例还提供了一种显示装置，包括如第一方面中所述的显示基板。

第三方面，本发明实施例还提供了一种显示基板的制作方法，应用于如第一方面中所述的显示基板，所述方法包括以下步骤：

提供一衬底基板；

在所述衬底基板上形成电极层；

在所述电极层的背对所述衬底基板的一侧形成像素限定层，并在所述像素限定层中形成透光区；

其中，所述透光区的像素限定层图形环绕所述电极层的电极设置，所述透光区中除所述像素限定层图形之外的区域为镂空区。

本发明实施例提供的显示基板，像素限定层包括透光区，而透光区中包括镂空区的设计，进而透光区也就只包括像素限定层图形，光线入射到透光区时，镂空区并不会对光线的穿过造成任何影响，也就不会造成光通量的衰减。这样，相比于现有的并不存在镂空区设计的像素限定层，本发明实施例提供的像素限定层的透光率更好，镂空区的设计能够有效增大像素限定层的透光率，进而也就增大了显示基板的透光率。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对本发明实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获取其他的附图。

图1是本发明实施例提供的一种显示基板的结构图；

图2是本发明实施例提供的一种显示基板中发光结构的结构图；

图3是本发明实施例提供的一种显示基板中像素限定层的结构图；

图4是本发明实施例提供的一种显示基板的制作方法的流程图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获取的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。