[发明专利]一种提高太阳能电池正电极拉力的制作方法在审

专利信息
申请号: 201911042497.2 申请日: 2019-10-30
公开(公告)号: CN110797436A 公开(公告)日: 2020-02-14
发明(设计)人: 童锐;柯希满;张忠卫 申请(专利权)人: 南通苏民新能源科技有限公司
主分类号: H01L31/18 分类号: H01L31/18;H01L31/0224
代理公司: 32224 南京纵横知识产权代理有限公司 代理人: 董建林
地址: 226300 江苏省南通*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 正电极 制作 太阳能电池 充分接触 硅片表面 平滑处理 绒面结构 制作过程 抛光 硅片 焊带 绒面 太阳能 保证
【说明书】:

发明公开了一种提高太阳能电池正电极拉力的制作方法,包括在完成绒面工序之后、PN结制作工序之前,在对应于正电极所在的位置对硅片表面的绒面结构进行抛光平滑处理。在太阳能制作过程中,通过增加本发明中的制作工序能够使得最终所制作的正电极与硅片的表面充分接触,从而提高正电极的拉力,保证其与焊带连接的可靠性。

技术领域

本发明属于太阳能制造领域,具体涉及一种提高太阳能电池正电极拉力的制作方法。

背景技术

现有技术中位于太阳能表面的正电极抗拉力强度直接影响着后期电池片的焊接,如果拉力值过低将会电极和焊带之间不能紧密的连接在一起,形成虚焊。因此提升正电极拉力对于提升电池片可靠性具有重要的意义。

发明内容

针对上述问题,本发明提出一种提高太阳能电池正电极拉力的制作方法。

实现上述技术目的,达到上述技术效果,本发明通过以下技术方案实现:

一种提高太阳能电池正电极拉力的制作方法,其特征在于:包括在完成绒面工序之后、PN结制作工序之前,在对应于正电极所在的位置对硅片表面的绒面结构进行抛光平滑处理。

作为本发明的进一步改进,包括以下步骤:

(1)在硅片的表面覆盖掩膜,所述掩膜上的非保护区域对应于后期工艺所制作的正电极所在的位置;

(2)采用抛光剂对硅片的表面进行抛光刻蚀处理;

(3)去除掩膜并水洗、烘干。

作为本发明的进一步改进,所述的掩膜覆盖在硅片的正面。

作为本发明的进一步改进,所述掩膜图案的设计与后期电极制作工序中的印刷图形相一致。

作为本发明的进一步改进,所述的掩膜采用石蜡材质制作。

作为本发明的进一步改进,步骤(3)中采用浓度为10%-30%wt的硝酸、在100-140℃的温度下清洗表面的石蜡掩膜层,清洗的时间为10s-120s。

作为本发明的进一步改进,所述的抛光机为浓度为5%-20%wt的氢氧化钾溶液,步骤(2)中所述的抛光剂对所述硅片进行处理的温度为40℃-70℃,时间60s-600s。

本发明的有益效果:在太阳能制作过程中,通过增加本发明中的制作工序能够使得最终所制作的正电极与硅片的表面充分接触,从而提高正电极的拉力,保证其与焊带连接的可靠性。

附图说明

图1为本发明工艺流程图;

图2为本发明所制作的太阳能电池的结构示意图;

图3为本发明对应于所制作的太阳能电池所需掩膜的结构示意图;

图4对本发明所制作的电池正电极拉力的测试结果;

其中:1-硅片,2-正电极,3-掩膜,301-保护区域,302-非保护区域。

具体实施方式

为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合实施例,对本发明进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明,并不用于限定本发明。

下面结合附图对本发明的应用原理作详细的描述。

本发明为了提高正电极的拉力强度,所采用的主要方法的思路为,在完成绒面工序之后、PN结制作工序之前,在对应于正电极2所在的位置对硅片1表面的绒面结构进行抛光平滑处理。即将制绒后的硅片1表面所存在的孔洞状绒面或金字塔状绒面刻蚀为光滑平整的镜面结构,防止制作电极过程中,银浆无法充分与电极表面接触。

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