[发明专利]一种8英寸铌酸锂晶片的制备方法有效

专利信息
申请号: 201911044426.6 申请日: 2019-10-30
公开(公告)号: CN111230598B 公开(公告)日: 2022-05-06
发明(设计)人: 李春忠;吴皓;朱莉 申请(专利权)人: 德清晶辉光电科技股份有限公司;杭州雨晶电子科技有限公司
主分类号: B24B1/00 分类号: B24B1/00;B24B41/06;B28D5/00;H01L21/302
代理公司: 杭州杭诚专利事务所有限公司 33109 代理人: 尉伟敏
地址: 313299 浙江省湖州市德*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 英寸 铌酸锂 晶片 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种8英寸铌酸锂晶片的制备方法,其特征是,包括如下步骤:

(1)切割及一次腐蚀:将8英寸铌酸锂晶体切割成厚度为0.55~0.6mm的晶片后放入腐蚀液中进行一次腐蚀,一次腐蚀去除晶片质量2.8~3.2g;

(2)还原黑化;

(3)减薄及二次腐蚀:将还原黑化后的晶片双面减薄至厚度为0.5~0.55mm,清洗干净后再放入腐蚀液中进行二次腐蚀,二次腐蚀去除晶片质量2.8~3.2g;

(4)抛光;

(5)三次腐蚀:将抛光后的晶片放入腐蚀液中进行三次腐蚀,三次腐蚀时间110~130min;清洗后得所述8英寸铌酸锂晶片。

2.根据权利要求1所述的一种8英寸铌酸锂晶片的制备方法,其特征是,步骤(1)、(3)、(5)中所述的腐蚀液为体积比为1:(1~2)的硝酸和氢氟酸。

3.根据权利要求1或2所述的一种8英寸铌酸锂晶片的制备方法,其特征是,步骤(1)中切割成的晶片用倒角机倒成C型边。

4.根据权利要求1所述的一种8英寸铌酸锂晶片的制备方法,其特征是,步骤(2)中还原黑化的方法为:将一次腐蚀后的晶片用还原剂印刷后装入还原炉内,加热到450~500℃然后降温到室温取出。

5.根据权利要求4所述的一种8英寸铌酸锂晶片的制备方法,其特征是,所述还原剂为碳粉。

6.根据权利要求1所述的一种8英寸铌酸锂晶片的制备方法,其特征是,步骤(4)中采用多孔陶瓷吸盘吸附晶片抛光,抛光压力300g/cm2,转速35rpm,抛光时间30min,抛光液流量1L/min。

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