[发明专利]一种空心倾斜金属微针阵列及其基于SU-8模具的制造方法有效
申请号: | 201911045358.5 | 申请日: | 2019-10-30 |
公开(公告)号: | CN110787361B | 公开(公告)日: | 2021-08-31 |
发明(设计)人: | 马炳和;张忠刚;罗剑;王善忠 | 申请(专利权)人: | 西北工业大学 |
主分类号: | A61M37/00 | 分类号: | A61M37/00;C23C14/18;C23C28/02;C25D7/00 |
代理公司: | 西北工业大学专利中心 61204 | 代理人: | 吕湘连 |
地址: | 710072 *** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 空心 倾斜 金属 阵列 及其 基于 su 模具 制造 方法 | ||
1.一种空心倾斜金属微针阵列的制造方法,所述空心倾斜金属微针阵列的金属材料为可电镀金属,空心倾斜金属微针呈斜圆锥状,倾斜角度为50°~70°;垂直高度为500μm~650μm;空心倾斜金属微针底部到尖端为等壁厚结构,壁厚为8μm~10μm;空心倾斜金属微针底部外径为150μm~250μm;空心倾斜金属微针锥角为10°~15°,空心倾斜金属微针顶部带有尖端,其特征在于,包括以下步骤:
步骤一:在玻璃基底上制备SU-8模具,包括以下子步骤:
1.1玻璃基底上制备SU-8模具掩膜图形
将玻璃片1充分热烘或氧等离子清洗,去除基底表面的有机物;然后在玻璃片表面溅射一层金属铬;在铬金属层上旋涂正胶,曝光、显影后露出需要腐蚀的铬,在金属铬腐蚀液中腐蚀后得到SU-8模具掩膜图形层4;
1.2在玻璃片表面制备SU-8模具底部牺牲层
将样件清洗并充分热烘,在样件无金属铬的一面旋涂OmniCoat作为SU-8模具底部牺牲层2并充分热烘;
1.3背面倾斜曝光
在步骤1.2得到样件的OmniCoat面旋涂第一层SU-8光刻胶3,然后进行正面垂直无掩模曝光;在同一面上再旋涂第二层SU-8光刻胶5,第二层光刻胶5厚度决定SU-8模具上微针垂直高度及空心倾斜金属微针垂直高度H,第二层光刻胶层5经充分前烘后,将样件置于紫外曝光灯下,SU-8模具掩膜图形层4朝向紫外光灯,利用夹具使样件与紫外光夹角β为40°~90°,样件与紫外光夹角β决定SU-8模具上微针的倾斜角度及空心倾斜金属微针倾斜角度α,然后经后烘、显影得到SU-8模具6;
在得到的SU-8模具表面用喷胶机喷涂一层OmniCoat,置于旋涂机上甩胶,然后置于恒温箱中热烘;
步骤二:在SU-8模具表面制备空心倾斜金属微针,包括以下子步骤:
2.1在SU-8模具表面溅射沉积金属种子层
在步骤1.3得到喷涂OmniCoat的SU-8模具6上溅射沉积金属种子层7,溅射中确保样件与金属沉积方向的夹角为180°-α,SU-8模具上微针与金属沉积方向平行,确保SU-8模具上微针外部完全被沉积的金属种子层7包裹;
2.2在金属种子层表面电镀金属层,形成倾斜金属微针结构层
将样件放入可电镀金属的电解质溶液中进行电镀,形成倾斜金属微针结构层8;
步骤三:制备倾斜金属微针顶部尖端,包括以下子步骤:
3.1制备SU-8模具上倾斜金属微针顶部尖端掩模
在步骤2.2得到的倾斜金属微针结构层8表面旋涂SU-8光刻胶,然后将其置于热板上热烘,使SU-8胶层充分平坦,然后将样件置于显微镜下观察SU-8光刻胶面与SU-8模具微针顶部垂直距离d,重复前述旋涂和热烘,直至SU-8光刻胶面比SU-8模具微针顶部垂直距离d为50μm~70μm;
将样件涂胶面置于紫外光灯下进行无掩模垂直曝光,曝光量为标准曝光能量的1/4~1/3,然后进行正常的热烘,得到SU-8模具上微针顶部倾斜尖端掩模9;
3.2制备SU-8模具上倾斜金属微针顶部倾斜尖端
将步骤3.1处理后的样件进行第一次RIE刻蚀,刻蚀中样件与刻蚀方向的夹角γ为60°~70°,刻蚀掉倾斜金属微针结构层8顶部固化的SU-8胶层;
保持样件与刻蚀方向的夹角不变,将样件置于含氟气体进行第二次RIE刻蚀,去除SU-8模具上微针顶部表面的倾斜金属微针结构层和电镀金属层,直至露出SU-8模具;
步骤四:去除SU-8模具;
将步骤3得到的样件置于SU-8专用去胶液中,得到带尖端的空心倾斜金属微针阵列。
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