[发明专利]一种数字曝光机及其曝光控制方法有效
申请号: | 201911047306.1 | 申请日: | 2019-10-30 |
公开(公告)号: | CN110780546B | 公开(公告)日: | 2021-10-15 |
发明(设计)人: | 王志冲;李付强;刘鹏;冯京;栾兴龙;袁广才;董学 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/22 | 分类号: | G03F7/22;G03F7/20 |
代理公司: | 北京润泽恒知识产权代理有限公司 11319 | 代理人: | 李娜 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 数字 曝光 及其 控制 方法 | ||
1.一种数字曝光机的曝光控制方法,应用于待曝光显示母板,所述待曝光显示母板至少包括第一待曝光显示基板,所述第一待曝光显示基板包括阵列排布的多个子像素,其特征在于,所述曝光控制方法包括:
从沿所述数字曝光机的扫描方向上位于第一排的所述子像素的外侧开始,经过多次扫描完成对所述第一待曝光显示基板的显示区域的曝光,其中,每次扫描采用的扫描间距均为沿所述扫描方向上所述第一待曝光显示基板中相邻两排所述子像素的间距的整数倍,其中,所述相邻两排所述子像素的间距为当前排子像素的上端与相邻排子像素的下端之间的距离。
2.根据权利要求1所述的曝光控制方法,其特征在于,所述多次扫描包括第一扫描,所述第一扫描需要扫描的区域为第一扫描区域;在所述第一扫描之前,所述曝光控制方法还包括:
设置多个辅助层,每个所述辅助层对应一个待曝光区域;
识别所述第一扫描区域对应的所述辅助层;
确定所述第一扫描区域对应的所述辅助层关联的第一曝光程式,所述第一曝光程式中设置所述扫描间距为沿所述扫描方向上所述第一待曝光显示基板中相邻两排所述子像素的间距的整数倍。
3.根据权利要求2所述的曝光控制方法,其特征在于,所述待曝光显示母板还包括第二待曝光显示基板;沿所述扫描方向,所述第二待曝光显示基板与所述第一待曝光显示基板相邻;
沿所述扫描方向,相邻两个所述辅助层存在交叠区,所述交叠区对应所述第一待曝光显示基板和所述第二待曝光显示基板的显示区之间的区域。
4.根据权利要求3所述的曝光控制方法,其特征在于,
所述多次扫描还包括第二扫描,所述第二扫描需要扫描的区域为第二扫描区域;
在所述第一扫描之后,所述曝光控制方法还包括:
判断所述第二扫描区域是否与所述交叠区对应;
若是,则将所述第一曝光程式切换为与所述第二扫描区域对应的所述交叠区关联的第二曝光程式;所述第二曝光程式中,设置所述扫描间距为沿所述扫描方向上,所述第一待曝光显示基板与所述第二待曝光显示基板的显示区之间的距离的整数倍;
若否,则采用与所述第二扫描区域对应的辅助层关联的第三曝光程式进行所述第二扫描,所述第三曝光程式中设置所述扫描间距为沿扫描方向上所述第一待曝光显示基板中相邻两排所述子像素的间距的整数倍。
5.根据权利要求4所述的曝光控制方法,其特征在于,在所述将所述第一曝光程式切换为与所述第二扫描区域对应的所述交叠区关联的第二曝光程式之后,所述曝光控制方法还包括:
采用所述第二曝光程式对所述第二扫描区域进行扫描。
6.根据权利要求5所述的曝光控制方法,其特征在于,
在所述采用所述第二曝光程式对所述第二扫描区域进行扫描之后,所述曝光控制方法还包括:
判断当前扫描区域是否与所述第二待曝光显示基板的待曝光区域对应的所述辅助层对应;
若是,则将所述第二曝光程式切换为与所述当前扫描区域对应的所述辅助层关联的第四曝光程式;所述第四曝光程式中设置所述扫描间距为沿扫描方向上,所述第二待曝光显示基板中相邻两排所述子像素的间距的整数倍;
若否,则采用与所述当前扫描区域对应的所述交叠区关联的第五曝光程式对所述当前扫描区域进行扫描;所述第五曝光程式中设置所述扫描间距为沿所述扫描方向上,所述第一待曝光显示基板与所述第二待曝光显示基板的显示区之间的距离的整数倍。
7.根据权利要求6所述的曝光控制方法,其特征在于,在所述将所述第二曝光程式切换为与所述当前扫描区域对应的所述辅助层关联的第四曝光程式之后,所述曝光控制方法还包括:
采用所述第四曝光程式对所述当前扫描区域进行扫描。
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