[发明专利]用于智能递送涂料的方法、设备以及系统

说明书

用于智能递送涂料的方法、设备以及系统。公开了用于控制向基底表面释放涂料的方法、系统以及设备，所述系统和设备通过感测条件参数和基底参数并将这些参数与存储的参数值以及值范围进行比较来模仿有经验的工匠。

技术领域

本公开总体上涉及涂敷方法、系统以及设备领域。更具体地，本公开涉及用于向基底表面递送涂料的手动操作的或自动化的系统以及设备领域。

背景技术

许多大型结构包括具有需要涂油漆、涂底漆或者施涂其它涂层的基底表面的基底。在一些情况下，这样的涂层是手动施用于基底表面的；例如，由工匠来进行的。通常，必须在特别注意涂层厚度的情况下来递送这样的涂层，并且在可能的情况下，在一定的公差内具有相当大的涂层均匀性。当特别大的结构包括复杂的形状、曲线、不规则表面等时，情况尤其如此。

发明内容

当前各方面公开了一种用于淀积大致均匀的涂层的系统，并且所述设备包括至少一个检测器。所述检测器被配置成检测至少一个条件参数和/或至少一个基底参数。所述系统还包括与至少一个存储器通信的控制器，并且所述存储器包含以下项中的至少一项的可扩展集合：至少一个条件参数，和/或至少一个基底参数。所述系统还包括涂料施涂器，并且所述涂料施涂器与所述控制器通信。所述控制器被配置成调节涂料从所述涂料施涂器到基底的释放，并且涂料的所述释放被配置成响应于至少一个条件参数和/或至少一个基底参数而发生，并且所述基底具有基底表面。

根据另一方面，所述条件参数包括以下项中的至少一项：

周围相对湿度；周围温度；涂料流率；涂料的特征(例如，包括存在适当的组分浓度，例如，涂料混合物(例如可以是涂料悬浮液)的特征)；检测到的距离；检测到的角度、检测到的位置、淀积的涂层厚度等以及这些的组合。

在另一方面，所述基底参数包括以下项中的至少一项：基底标识符；基底形状；基底位置；从所述基底表面到所述喷涂设备的距离；所述涂料相对于所述基底表面的淀积角度；运动图案，所述运动图案表示所述基底相对于所述涂料施涂器的移动；以及淀积的涂料厚度。

在另一方面，将所述控制器和所述检测器集成到单个单元中，并且所述单个单元可以是涂料施涂器，举例来说，如喷雾式涂料施涂器。

另一方面致力于提供一种例如可以是喷雾式涂料施涂器的涂料施涂器，并且所述涂料施涂器包括至少一个检测器，并且所述至少一个检测器被配置成检测以下项中的至少一项：至少一个条件参数；和/或至少一个基底参数。所述涂料施涂器还包括：控制器，所述控制器被配置成调节来自所述涂料施涂器的涂料流，和显示器，所述显示器被配置成指示以下项中的至少一项：存在和/或缺少以下项中的至少一项：所述条件参数和所述基底参数。所述涂料施涂器还包括控制器或者与控制器通信，所述控制器还被配置成调节从所述涂料施涂器向基底释放一定量的涂料和/或控制从所述涂料施涂器向基底释放一定量的涂料。所述释放一定量的涂料和/或所述控制释放一定量的涂料被配置成响应于至少一个条件参数和/或至少一个基底参数而发生，并且所述基底具有基底表面。

在另一方面，所述涂料施涂器控制器与至少一个存储器通信，并且所述存储器包括以下项中的至少一项的可扩展集合：至少一个条件参数或至少一个基底参数。

另一方面致力于提供一种用于控制、更改、递送和/或终止从涂料施涂器向基底递送或释放涂料方法，所述基底具有基底表面，所述方法包括以下步骤：利用条件参数检测器检测至少一个条件参数以形成检测到的条件参数值，所述条件参数检测器与控制器通信；从条件参数存储器访问条件参数值范围；将来自所述条件参数存储器的所述条件参数值范围与所述检测到的条件参数值进行比较；向所述控制器发送条件参数值信号；利用基底参数检测器检测至少一个基底参数以形成检测到的条件参数值，所述基底参数检测器与所述控制器通信；从基底参数存储器访问基底参数值范围；将来自所述基底参数存储器的所述基底参数范围与所述检测到的基底参数值进行比较；并且向所述控制器发送基底参数值信号；以及控制从所述涂料施涂器释放预定量的涂料(例如，通过更改、阻止、终止、调节等来释放预定量的涂料)。