[发明专利]用于光伏电池镀膜的立式PECVD设备在审
申请号: | 201911052715.0 | 申请日: | 2019-10-31 |
公开(公告)号: | CN110616419A | 公开(公告)日: | 2019-12-27 |
发明(设计)人: | 李晔纯;成秋云;罗志敏;张弥涛 | 申请(专利权)人: | 湖南红太阳光电科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/54 | 分类号: | C23C16/54;C23C16/458 |
代理公司: | 43008 湖南兆弘专利事务所(普通合伙) | 代理人: | 戴玲 |
地址: | 410205 湖南省*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 镀膜 传输导轨 光伏电池 反应柜 硅片 六轴 取片 机器人 生产成本低 生产效率 开口处 | ||
1.一种用于光伏电池镀膜的立式PECVD设备,包括六轴插取片机器人(1)和硅片过渡传输导轨(2),其特征在于:还包括三个立式镀膜反应柜(3),三个所述立式镀膜反应柜(3)围成C形区域,所述硅片过渡传输导轨(2)设于C形区域的开口处,所述六轴插取片机器人(1)设于C形区域内。
2.根据权利要求1所述的用于光伏电池镀膜的立式PECVD设备,其特征在于:所述立式镀膜反应柜(3)内装设有镀膜反应室(31),所述镀膜反应室(31)内设有真空热反应腔(32)和石墨舟升降机构(33),所述石墨舟升降机构(33)上装设有呈立式设置的石墨舟(4),所述真空热反应腔(32)的顶部设有用于石墨舟(4)出入的出入口(321)。
3.根据权利要求2所述的用于光伏电池镀膜的立式PECVD设备,其特征在于:所述石墨舟(4)包括多层间隔设置的石墨片(41),所述石墨片(41)上设有向上凸起的用于支撑硅片(8)的硅片支撑部(42)。
4.根据权利要求3所述的用于光伏电池镀膜的立式PECVD设备,其特征在于:所述六轴插取片机器人(1)的活动端装设有多层间隔设置的插取板(11),各插取板(11)上均设有真空吸盘(12),相邻插取板(11)之间的间距与相邻石墨片(41)之间的间距相同。
5.根据权利要求2所述的用于光伏电池镀膜的立式PECVD设备,其特征在于:所述石墨舟升降机构(33)包括垂直运动模组(331)、石墨舟装载组件(332)和用于密封出入口(321)的密封炉门(333),所述石墨舟装载组件(332)的顶端设于垂直运动模组(331)上,所述密封炉门(333)设于石墨舟装载组件(332)的顶部,所述石墨舟(4)装载于石墨舟装载组件(332)内。
6.根据权利要求5所述的用于光伏电池镀膜的立式PECVD设备,其特征在于:所述垂直运动模组(331)包括丝杆(3311)、垂直升降架(3312)和伺服电机(3313),所述垂直升降架(3312)滑设于镀膜反应室(31)内,所述丝杆(3311)装设于镀膜反应室(31)内,所述丝杆(3311)的一端与伺服电机(3313)连接,另一端与垂直升降架(3312)螺纹连接,所述石墨舟装载组件(332)吊设于垂直升降架(3312)的顶部。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的用于光伏电池镀膜的立式PECVD设备,其特征在于:还包括抽真空机构(5),所述抽真空机构(5)与各立式镀膜反应柜(3)连接。
8.根据权利要求7所述的用于光伏电池镀膜的立式PECVD设备,其特征在于:所述真空机构(5)包括一个抽空真空泵(51)和三个压力控制真空泵(52),所述抽空真空泵(51)与各立式镀膜反应柜(3)均连接,三个压力控制真空泵(52)与三个立式镀膜反应柜(3)一一对应连接。
9.根据权利要求1至6中任一项所述的用于光伏电池镀膜的立式PECVD设备,其特征在于:所述硅片过渡传输导轨(2)包括并排设置的上料导轨(21)和下料导轨(22)。
10.根据权利要求9所述的用于光伏电池镀膜的立式PECVD设备,其特征在于:所述上料导轨(21)和下料导轨(22)均为两根。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
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C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的