[发明专利]一种中红外非线性光学晶体POC及其制备方法在审
申请号: | 201911052834.6 | 申请日: | 2019-10-31 |
公开(公告)号: | CN110685006A | 公开(公告)日: | 2020-01-14 |
发明(设计)人: | 张彦;罗宽宽;徐家跃;储耀卿;田甜;申慧;王洪超;袁军平;黄礼武;余枭 | 申请(专利权)人: | 上海应用技术大学 |
主分类号: | C30B11/00 | 分类号: | C30B11/00;C30B29/12;G02F1/355 |
代理公司: | 31001 上海申汇专利代理有限公司 | 代理人: | 徐俊 |
地址: | 200235 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 坩埚 制备 装入 红外非线性光学晶体 熔点 熔融化合物 晶胞参数 晶体生长 退火处理 正交晶系 坩埚位置 研磨 成品率 晶体的 晶体炉 空间群 单晶 挥发 炉内 熔融 下管 加热 取出 | ||
1.一种中红外非线性光学晶体POC,其特征在于,为一种熔融化合物,该晶体的熔点为526℃,属于正交晶系,其空间群为Fmm2(42),晶胞参数为Z=3。
2.权利要求1所述的中红外非线性光学晶体POC的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
步骤1):原料合成:将PbCl2与PbO按比例置于玛瑙研钵中,研磨0.5~2小时;将混合均匀后的粉末装入到坩埚中,加盖置于马弗炉中,在400℃~460℃的条件下保温48小时以上,自然冷却至室温后取出,进行充分研磨后,得到POC晶料;
步骤2):晶体生长采用以下方法中的任意一种:
方法一:将装料后的坩埚置于下降炉中6~12h,将晶体炉升温至500℃~600℃,并保温8~14小时,让坩埚内的晶料完全充分熔融;控制炉温为500℃~600℃,调整坩埚位置,开始晶体生长,下降速度为0.05~1mm/h,固液界面的温度梯度为5~45℃/cm;
方法二:在POC晶料中直接加入过量PbCl2,然后装入坩埚中置于炉内,将晶体炉升温至500℃~600℃,并保温4~12小时;逐渐提升引下管,达到500℃~600℃时保温8~14h,调整坩埚位置,让坩埚内的晶料完全充分熔融;以0.05~1mm/h的速度下降引下管,进行晶体生长;
步骤3):退火处理:待晶体完全生长后,将坩埚转移至炉内恒温区,在350℃~400℃下保温10~14小时,消除晶体内应力,然后以5~40℃/cm速率降至室温,取出坩埚,将晶体从坩埚中剥离,得到POC单晶。
3.如权利要求2所述的中红外非线性光学晶体POC的制备方法,其特征在于,所述步骤1)中的PbCl2和PbO使用前分别在60℃~80℃的空气气氛下干燥1~3小时,然后自然冷却到室温。
4.如权利要求2所述的中红外非线性光学晶体POC的制备方法,其特征在于,所述步骤1)中PbCl2、PbO的质量纯度均不小于99.99%;PbO与PbCl2的摩尔比为1:(0.1~3)。
5.如权利要求2所述的中红外非线性光学晶体POC的制备方法,其特征在于,所述步骤1)中所使用的坩埚为铂金坩埚、氧化铝刚玉坩埚或附碳石英坩埚,其主体结构为多边棱柱或圆柱,底部结构为锥底结构、直毛细管结构、扭曲毛细管结构、直毛细管结构或倾斜角度的平底结构。
6.如权利要求2所述的中红外非线性光学晶体POC的制备方法,其特征在于,所述步骤2)得到的POC晶料经XRD分析若没有得到纯相,重复步骤2)直至得到相应的纯相。
7.如权利要求2所述的中红外非线性光学晶体POC的制备方法,其特征在于,所述步骤2)中的晶料完全熔化后将坩埚下降5~15mm,开始晶体生长,生长速率为0.01~1mm/h,采用熔体垂直地面的模式生长。
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