[发明专利]半导体测试装置在审

专利信息
申请号: 201911054866.X 申请日: 2019-10-31
公开(公告)号: CN110673011A 公开(公告)日: 2020-01-10
发明(设计)人: 敖文扬;黄洁 申请(专利权)人: 苏州通富超威半导体有限公司
主分类号: G01R31/26 分类号: G01R31/26;G01R1/02;G01R1/04
代理公司: 11435 北京志霖恒远知识产权代理事务所(普通合伙) 代理人: 郭栋梁
地址: 215000 江*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 测试头 进气管 冷凝水 设备内部 保护罩 隔离罩 半导体测试装置 半导体产品 气体保护层 测试环境 低温测试 电器元件 防止冷凝 压缩空气 短路 有效地 除湿 连通 申请
【说明书】:

本申请公开了一种半导体测试装置,在半导体产品低温测试时,测试头的温度会比较低,由于测试环境空气中的湿度,在测试头表面及周围会形成冷凝水,冷凝水会导致设备内部电器元件发生短路;本发明包通过设置进气管、连通所述进气管的测试头保护罩和隔离罩,通过向进气管输入经过除湿的压缩空气,气体经过进气管流入测试头保护罩内,并通过隔离罩在测试头周围限定出一层稳定的气体保护层,从而防止冷凝水的形成;本发明结构简单,设计合理,能够有效地解决设备内部冷凝水形成的问题。

技术领域

本发明一般涉及半导体测试领域,具体涉及一种半导体测试装置。

背景技术

在半导体测试领域中,在进行低温产品测试时,由于产品温度较低导致与产品直接接触的测试头温度较低,进而导致测试头周围一定范围的温度也比较低,当此温度低于露点温度时会在测试头周围及测试头的表面形成冷凝水,冷凝水会导致设备电器元件短路,损坏设备,有重大的设备安全隐患。

发明内容

鉴于现有技术中的上述缺陷或不足,期望提供一种能够防止设备内产生冷凝水的半导体测试装置。

第一方面,本发明包括:进气管;

测试头保护罩,所述测试头保护罩上设置有出气口,所述进气管连通所述出气口;

隔离罩,设置在所述测试头保护罩周围,用于阻挡外界气体进入所述测试头保护罩。

通过设置进气管输入干燥的空气,在测试头周围形成一层干燥的气体保护层,防止潮湿的空气接触低温的测试头,通过设置隔离罩,将测试头与周围的环境隔开,隔离了热传递的路径,保证周围环境的温度不受低温测试头的影响,使设备内部的环境温度高于露点温度,达到防止在设备内部产生冷凝水的效果;进一步地,隔离罩对散热风扇吹入的气流具有阻挡作用,将由进气管输入的干燥气体限定在测试头周围,使测试头周围不受外界空气湿度的干扰,保证测试头周围气体纯度,降低探测头周围露点的温度,防止冷凝水的产生。

进一步地,还包括设置在进气管的传感器,所述传感器为气体流量传感器或气体压力传感器。

进一步地,在进气端设置气体流量传感器或气压传感器,对进入测试头的空气量进行监测,在空气进入量小于一定值,达到有冷凝水形成的风险值时,提前对使用者进行预警。

进一步地,所述隔离罩的侧壁底部水平向内或向外设置有至少一个固定装置,通过设置固定装置可以将隔离罩固定在测试头保护罩周围。

进一步地,所述隔离罩的水平截面为矩形结构,所述隔离罩的侧壁底部向内形成有四个固定装置,所述固定装置分别位于所述隔离罩的四角位置。

将固定装置均与设置在隔离罩的内侧壁上,使固定的力均匀施加在隔离罩上,能够使隔离罩的每侧的侧壁底面与下基板能够有效接触,能够更好地起到阻挡气体的效果

较优地,所述固定装置为条型结构,所述固定装置的长边与所述隔离罩的长边相对应,所述固定装置的短边与所述隔离罩的短边相对应。

进一步地,所述隔离罩侧壁内表面形成有从所述侧壁底面竖直向上延伸至所述侧壁顶面的凹槽;设置凹槽对设备内部的相关部件进行避让,不干涉现有机构。

进一步地,所述隔离罩的侧壁底部均水平向外形成台阶,所述台阶的下底面与所述隔离罩的下底面位于同一水平面。

在隔离罩的侧壁底部向外形成有台阶,台阶可以增加隔离罩底面与下基板的接触面积,起到更好地密封效果,保证隔离罩的强度,进而保证隔离罩的隔离作用。

进一步地,所述隔离罩、延伸部和台阶为一体设置。

进一步地,所述隔离罩、延伸部和台阶部均由防静电材料制成,所述防静电材料为聚甲基丙烯酸甲酯、聚氯乙烯、聚对苯二甲酸二乙酸、碳酸酯中的任意一种。

有益效果

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州通富超威半导体有限公司,未经苏州通富超威半导体有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201911054866.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top