[发明专利]一种抛光砖制备过程中的防滑防污方法

说明书

一种抛光砖制备过程中的防滑防污方法，包括以下步骤：S1、将瓷砖进行抛光加工，抛光至40‑50度；S2、采用清洗液将抛光后的砖面进行清洗，然后用水冲洗砖面；S3、使用抛光机把防滑蜡水加工至砖面及打进砖面的毛细孔内；所述步骤S3后可选择地进行步骤S4和步骤S5中的任意一个或组合的步骤；S4、用抛光机把防污剂A打在砖面上；S5、用打蜡机把防污剂B打在砖面上，防污剂B是氟化硅类防污液。本发明制备的瓷砖，其光泽度大于等于91度，摩擦系数为0.75(干法)和0.65(湿法)，防污能力为五级；对比现有的普通防滑砖，其光泽度接近现今普通未经防滑防污处理的砖，具有很好的镜面效果，具有优异的防滑能力和防污能力。

技术领域

本发明涉及瓷砖制备工艺技术领域，尤其涉及一种抛光砖制备过程中的防滑防污方法。

背景技术

人们的生活水平越来越高了，对瓷砖的追求不止装饰效果，对瓷砖的安全要求越来越高，需要在不影响装饰效果的同时，又需要有防滑效果；这无疑是现阶段中抛光砖的一个问题；面有的抛光砖虽然光泽度高，但其由于光滑的表面，其表面没有粗糙感，不能很好地达到防滑的效果；虽然现有的技术在砖面上布置一个防滑层，但基于防层的存在，防污性又下降了。

发明内容

本发明的目的在于提出一种抛光砖制备过程中的防滑防污方法，其于步骤S3中使用防滑蜡水并配合抛光，步骤S4中使用防污剂A并配合抛光，以及在步骤S5中使用防污剂B并配合打蜡。

为达此目的，本发明采用以下技术方案：

一种抛光砖制备过程中的防滑防污方法，包括以下步骤：

S1、将瓷砖进行抛光加工，抛光至40-50度；

S2、采用清洗液将抛光后的砖面进行清洗，然后用水冲洗砖面；

S3、使用抛光机把防滑蜡水加工至砖面及打进砖面的毛细孔内；

所述步骤S3后可选择地进行步骤S4和步骤S5中的任意一个或组合的步骤；

S4、用抛光机把防污剂A打在砖面上；

S5、用打蜡机把防污剂B打在砖面上，防污剂B是氟化硅类防污液。

更进一步说明，所述步骤S3中，防滑蜡水包括；防滑料A与防滑料B；

所述防滑料A的分子结构式为：

R₁和R₂分别为烷基；

所述防滑料B的分子结构式为：

更进一步说明，所述步骤S4中，防污剂A包括：防污材料A；防污材料A的结构为：

更进一步说明，所述步骤S5中，防污剂B包括：防污材料B；防污材料B的结构式为：

R₁和R₂分别为烷基。

更进一步说明，R₁和R₂分别为-CH₂-CH₂-；防污材料B的分子结构式如下：

更进一步说明，防滑料A与防滑料B之间的质量比为(1-3)：1。

更进一步说明，防污剂A包括：低沸点溶剂；所述低沸点溶剂包括：乙醇、丙酮、乙酸乙酯、乙酸丁酯、水中的一种或组合。

更进一步说明，所述低沸点溶剂与防污料A之间的质量比为1：(3-5)。