[发明专利]一种基于单层MoS在审

专利信息
申请号: 201911056006.X 申请日: 2019-10-31
公开(公告)号: CN110690317A 公开(公告)日: 2020-01-14
发明(设计)人: 李国强;郑昱林;王文樑;唐鑫;柴吉星;孔德麒 申请(专利权)人: 华南理工大学
主分类号: H01L31/109 分类号: H01L31/109;H01L31/18;H01L31/0336;C23C14/30;C23C14/18
代理公司: 44102 广州粤高专利商标代理有限公司 代理人: 何淑珍;冯振宁
地址: 510640 广*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 纳米柱阵列 单层 紫外探测器 自供电 薄膜 金属电极 异质结 制备 纳米柱阵列顶部 光电集成器件 薄膜转移 程度减小 上支撑 衬底 底端 湿法 旋涂 生长 应用
【说明书】:

发明公开了一种基于单层MoS2薄膜/GaN纳米柱阵列的自供电紫外探测器及其制备方法。所述自供电紫外探测器,自下至上依次包括衬底、GaN纳米柱阵列、所述GaN纳米柱阵列顶上支撑着的单层MoS2薄膜;所述单层MoS2薄膜上设有第一金属电极;所述GaN纳米柱阵列底端处设有第二金属电极。本发明提供了一种旋涂湿法转移的方法将单层MoS2薄膜转移至生长的GaN纳米柱阵列顶部形成异质结,并利用了MoS2‑GaN异质结的PV效应,制备了自供电紫外探测器,极大程度减小了器件的尺寸体积,对光电集成器件应用前景重大。

技术领域

本发明属于紫外探测器领域,具体涉及一种基于单层MoS2薄膜/GaN纳米柱阵列的自供电紫外探测器及其制备方法。

背景技术

紫外探测技术在火焰探测、臭氧层空洞监测、紫外通信、国防预警与跟踪等军事及民用设施领域中具有广泛应用。在电子设备高度集成化的今天,紫外探测器作为重要的光电转换器件,其结构的微型化、可集成化成了发展的必然趋势。

第三代宽带隙半导体材料GaN,禁带宽度为3.4 eV,是一种理想的紫外探测器原材料;为了进一步减小成本和体积、提高性能,从而达到光电集成化应用的程度,近年来,使用一维纳米结构GaN作为紫外探测器成为了研究热门。一维GaN纳米结构紫外探测器优势表现为:其晶体质量是优于薄膜的,因为一维纳米结构是几乎完全弛豫的,能够有效减少穿透到纳米棒顶端的位错,有助于减少缺陷,提高晶体质量;此外,一维GaN纳米结构在很大程度上増加了材料的侧壁面积,从而增加了光子逃逸/吸收角度,有效的提高了光发射/吸收,从而提高了探测器性能。然而要使得这种纳米光电集成系统,即多个纳米器件集成成为可能,这些纳米器件必须是自给自足的,也就是说,不需要外部电源供给其工作,因为外部电源会大大增加了器件系统的尺寸和重量。克服这个问题的关键是采用自供电紫外探测器。它是利用器件结构中的光伏效应(PV),即在光照下产生半导体中的电子−空穴对,并在器件本身p-n结、肖特基结或异质结形成的内建电场作用下进行有效的分离,产生光电流,在这种情况下,该装置被分类为PV(或自供电)光电探测器。目前,基于p-n结、肖特基结的GaN自供电紫外探测器已经有很多研究报道,然而此类自供电紫外探测器的自供电光电响应性能都有待提高。因此,为了获得高性能的基于异质结的自供电紫外探测器[Bie, Y. , Liao, Z. ,Zhang, H. , Li, G. , Ye, Y. , Zhou, Y. , Xu, J. , Qin, Z. , Dai, L. and Yu,D., Self‐Powered, Ultrafast, Visible‐Blind UV Detection and Optical LogicalOperation based on ZnO/GaN Nanoscale p‐n Junctions. Advanced Materials, 23(2011) 649-653. doi:10.1002/adma.201003156],构造晶格和能带相匹配的两种不同材料的的异质结是非常重要的。

类石墨烯的二维层状材料作为一个新兴纳米材料体系,在各种工作在不同光谱区域的光电探测器中得到广泛应用,二硫化钼(MoS2)是目前研究最热门的二维层状材料,单层MoS2薄膜是一种新型二维半导体材料,其二维结构的量子限域特性以及强束缚激子,使得其光吸收性能十分优异,文献报道在可见光波段的吸收系数高达5×107 m-1;此外,单层MoS2薄膜具有极高的电子迁移率和超快速的光电响应,这些使其非常适宜制备光电探测器。但目前将其和一维GaN纳米结构结合的紫外探测器研究报道并无,因此有着巨大的发展前景。

发明内容

为了克服现有技术的缺点和不足,本发明的目的在于提供一种基于单层MoS2薄膜/GaN纳米柱阵列的自供电紫外探测器及其制备方法。该制备方法工艺简单,能耗低,省时高效。

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