[发明专利]一种光透微纳薄膜及其制造方法

权利要求书

1.一种光透微纳薄膜，其特征在于，包括基材层、设于所述基材层一端的透明光学可移胶、设于所述基材层另一端的微纳结构层，在所述透明光学可移胶远离微纳结构层的一端设有离型膜，在所述微纳结构层远离透明光学可移胶的一端设有纳米颗粒涂敷层；所述微纳结构层上排布设有多个凹点和凸点，其中，n个凸点中设置至少一个凹点，n为大于三的正整数；n个凸点和至少一个凹点形成一个光学结构区，所述微纳结构层由多个光学结构区组成。

2.根据权利要求1所述的光透微纳薄膜，其特征在于，所述光学结构区的正投影为规则的正多边形。

3.根据权利要求2所述的光透微纳薄膜，其特征在于，每个所述光学结构区中的凹点位于光学结构区正多边形中心向一侧偏置上。

4.根据权利要求1所述的光透微纳薄膜，其特征在于，每个所述光学结构区中，n个凸点和一个凹点构成棱锥结构。

5.根据权利要求1所述的光透微纳薄膜，其特征在于，每个所述光学结构区中，n个凸点在一个凹点的周边设置，相邻的两个光学结构区共用一侧凸点。

6.根据权利要求1所述的光透微纳薄膜，其特征在于，所述基材层的厚度为10微米～200微米之间。

7.根据权利要求1所述的光透微纳薄膜，其特征在于，在所述微纳结构层外层涂布有纳米颗粒层。

8.一种光透微纳薄膜的制造方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤一，加工基材层，采用PVC、PET、PC中的任意一种或组合加工基材层；

步骤二，加工微纳结构层，在上述步骤一完成的基材层表面用热压印或紫外压印的方法制作所述微纳结构层；

步骤三，加工纳米颗粒涂敷层，在上述步骤二完成的微纳结构层之上用喷涂或辊涂的涂布方法涂一层纳米颗粒涂层形成纳米颗粒涂敷层；

步骤四，在所述基材层远离微纳结构层的另一端涂布透明的透明光学可移胶，再复合一层离型膜；

步骤五，完成光透微纳薄膜的加工。

9.根据权利要求8所述的光透微纳薄膜的制造方法，其特征在于，所述步骤三的所述纳米颗粒涂层包括纳米颗粒材料和聚合物材料组合构成，所述聚合物材料为热风干燥聚合物涂料或紫外光辐射固化。

10.根据权利要求9所述的光透微纳薄膜的制造方法，其特征在于，所述纳米颗粒材料为多层包覆结构的纳米颗粒材料，其为金属氧化物和/或半导体氧化物。