[发明专利]掩膜版及其制备方法

权利要求书

1.一种掩膜版，其特征在于，包括版体，所述版体设置有检测开口，以及用于平衡所述检测开口沿第一方向所受拉伸应力的平衡图案，且所述平衡图案的面积不小于所述检测开口的面积；所述平衡图案与所述检测开口分别位于所述版体沿第一方向长度的中心线的两侧，所述第一方向与所述版体的拉伸方向垂直。

2.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述版体包括焊接区，所述焊接区位于所述版体沿拉伸方向的两端。

3.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述平衡图案为通孔或凹槽。

4.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述平衡图案与所述检测开口以所述版体沿所述第一方向长度的中心线为对称轴对称设置。

5.根据权利要求4所述的掩膜版，其特征在于，所述平衡图案为通孔，所述平衡图案与所述检测开口的形状和尺寸相同。

6.根据权利要求4所述的掩膜版，其特征在于，所述平衡图案为凹槽，所述平衡图案与所述检测开口的形状相同，所述平衡图案的面积大于所述检测开口的面积。

7.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述版体设置有一个所述平衡图案以及至少两个所述检测开口，所述平衡图案的面积不小于各所述检测开口的面积之和。

8.根据权利要求7所述的掩膜版，其特征在于，所述平衡图案的中心线到所述版体沿所述第一方向长度的中心线的距离与所述检测开口的中心线到所述版体沿所述第一方向长度的中心线的距离相等。

9.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述检测开口的边部具有向所述检测开口内侧凹陷的第一补偿角部，和/或向所述检测开口外侧突起的第二补偿角部。

10.根据权利要求9所述的掩膜版，其特征在于，所述检测开口为七边形。

11.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，还包括框架，所述框架具有开口，所述版体焊接于所述框架上，所述版体包括与所述框架的开口对应的蒸镀有效区以及与所述框架的边框对应的蒸镀无效区，所述蒸镀有效区中设置有所述检测开口，所述蒸镀无效区中设置有所述平衡图案。

12.一种掩膜版的制备方法，其特征在于，包括：

在版体沿着第一方向长度的中心线的两侧分别形成检测开口以及用于平衡所述检测开口沿第一方向所受拉伸应力的平衡图案，且所述平衡图案的面积不小于所述检测开口的面积；其中，所述第一方向与所述版体的拉伸方向垂直。