[发明专利]一种薄膜电极及其液相自攀爬制备方法与应用在审
申请号: | 201911056964.7 | 申请日: | 2019-10-31 |
公开(公告)号: | CN110767544A | 公开(公告)日: | 2020-02-07 |
发明(设计)人: | 高俊宁 | 申请(专利权)人: | 华南理工大学 |
主分类号: | H01L21/288 | 分类号: | H01L21/288;H01L29/43;B81C1/00;B82Y30/00;B82Y40/00 |
代理公司: | 44102 广州粤高专利商标代理有限公司 | 代理人: | 何淑珍;隆翔鹰 |
地址: | 510640 广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 制备 薄膜电极 图形电极 阵列图形 疏水 多功能半导体 纳米导电颗粒 超亲水表面 亲水性区域 微纳传感器 沉积设备 附属设备 均匀吸附 器件制备 爬升 工艺流程 不互溶 疏水层 衬底 成膜 刻机 攀爬 水油 制作 应用 | ||
1.一种薄膜电极的液相自攀爬制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
(1)制备超亲水表面与超疏水层:
取衬底,并清洗衬底表面有机物和杂质,对衬底进行羟基化处理,在衬底表面引入羟基,形成超亲水表面;然后生长疏水单分子层,羟基为生长疏水单分子层提供成键位点,疏水单分子层与所述羟基中的氧原子结合,形成超疏水层;
(2)制备亲/疏水阵列图形:
在超疏水层上放置掩膜板,所述掩膜板包括透光部分和不透光部分,用紫外光通过透光部分辐照到超疏水层上,超疏水层分解形成超亲水表面,得带有亲/疏水阵列图形的衬底;
(3)制备薄膜电极:
取生长容器,加入油相、水相和纳米导电颗粒,超声震荡,将带有亲/疏水阵列图形的衬底插入生长容器中,纳米导电颗粒沿着超亲水层爬升,从而形成薄膜电极。
2.根据权利要求1所述的薄膜电极的液相自攀爬制备方法,其特征在于,所述疏水单分子层为带有疏水长链的硅烷或硫醇。
3.根据权利要求1所述的薄膜电极的液相自攀爬制备方法,其特征在于,所述紫外光的波长为UVC波段,辐照时间为30-60 min。
4.根据权利要求1所述的薄膜电极的液相自攀爬制备方法,其特征在于,油相和水相的体积比为1:1~3;所述油相为有机相。
5.根据权利要求1所述的薄膜电极的液相自攀爬制备方法,其特征在于,所述纳米导电颗粒在生长容器中的浓度不高于10 mmol/L。
6.根据权利要求1所述的薄膜电极的液相自攀爬制备方法,其特征在于,所述纳米导电颗粒选自有机导电材料或无机导电材料。
7.根据权利要求1所述的薄膜电极的液相自攀爬制备方法,其特征在于,疏水单分子层为带有疏水长链的全氟十二烷基三氯硅烷。
8.根据权利要求1所述的薄膜电极的液相自攀爬制备方法,其特征在于,超声震荡的时间为5-10 min。
9.一种由权利要求1至8所述的液相自攀爬制备方法制备的薄膜电极。
10.权利要求9所述的薄膜电极在半导体及微纳电子器件制备中的应用。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造