[发明专利]用于优化干涉仪的光学性能的方法及设备

权利要求书

1.一种用干涉仪测量测试对象的性质的方法，所述方法包括：

a.提供校准信息，所述校准信息将所述干涉仪的多个对焦设定相关到所述测试对象的测试表面相对于所述干涉仪的参考光学元件的物理表面作为所述干涉仪的参考表面的对应多个位置，所述多个对焦设定中的每一个对焦设定是由所述干涉仪针对所述测试表面相对于所述参考表面的对应位置而产生的所述测试对象的测试表面的图像的最佳对焦的位置；

b.确定所述测试表面相对于所述参考表面的位置；以及

c.使用所述干涉仪来收集所述测试对象的干涉仪图像，以用于测量所述测试对象的性质；

d.其中所述方法还包括：基于所述校准信息和所确定的所述测试表面相对于所述参考表面的位置，使用一个或多个电子处理器来数学地传播从所述干涉仪图像推导的至少一个波前，以改善从所述干涉仪图像推导的波前的对焦度。

2.如权利要求1所述的方法，其中所述干涉仪包括用于支承所述测试对象的有刻度线的台，并且其中确定所述测试表面相对于所述参考表面的位置包括手动地或自动地读取所述有刻度线的台。

3.如权利要求1所述的方法，其中所述干涉仪包括具有可变波长的光源，其中所述干涉仪图像是在调整所述光源的波长的同时收集的，并且其中所述测试表面相对于所述参考的位置是基于在调整所述光源的波长的同时所收集的所述干涉仪图像而确定的。

4.如权利要求1所述的方法，所述方法包括基于所述校准信息和所确定的所述测试表面相对于所述参考的位置的、从所述干涉仪图像推导的波前的数学传播，以改善所述波前的对焦，并且其中所述测试对象的性质的测量是基于所传播的波前而确定的。

5.如权利要求1所述的方法，其中所述测试对象的测量的性质包括表面形貌、厚度分布或材料均匀度分布。

6.如权利要求5所述的方法，其中所述测试对象的测量的性质包括厚度分布或材料均匀度分布，并且其中所述方法还包括基于所述校准信息，数学地传播从所述干涉仪图像推导的至少一个其他波前，所述至少一个其他波前与所述测试对象的另一个表面有关。

7.一种用干涉仪测量测试对象的性质的方法，所述方法包括：

a.提供校准信息，所述校准信息将所述干涉仪的多个对焦设定相关到所述测试对象的测试表面相对于所述干涉仪的参考光学元件的物理表面作为所述干涉仪的参考表面的对应多个位置，所述多个对焦设定中的每一个对焦设定是由所述干涉仪针对所述测试表面相对于所述参考表面的对应位置而产生的所述测试对象的测试表面的图像的最佳对焦的位置；

b.确定所述测试表面相对于所述参考表面的位置；以及

c.使用所述干涉仪来收集所述测试对象的干涉仪图像，以用于测量所述测试对象的性质；

d.其中所述方法还包括：基于所述校准信息和所确定的所述测试表面相对于所述参考表面的位置，使用一个或多个电子处理器来数学地传播从所述干涉仪图像推导的至少一个波前，以改善从所述干涉仪图像推导的波前的对焦度，

其中所述测试对象包括多个测试表面，每个测试表面与所述参考表面定义了干涉仪腔体，并且其中所述测试对象的测量的性质与所述测试对象的所述多个测试表面有关并且是从所收集的干涉仪图像中推导的，并且

其中所述方法还包括：基于所述校准信息，使用所述一个或多个电子处理器来数学地传播从所述干涉仪图像推导的至少一个其他波前，所述至少一个其他波前与所述测试对象的另一个测试表面有关。