[发明专利]多孔吸附材料的再生方法

权利要求书

1.多孔吸附材料的再生方法，其特征在于，至少包括步骤：

a)将待处理多孔吸附材料进行脱水处理，得到中间产物；

所述步骤a)至少包括以下步骤：

a-1)获得含有所述待处理多孔吸附材料与水的混合物A；

a-2)使所述混合物A涂布在平板上，沉淀、脱水，即可得到所述中间产物；

b)对所述中间产物进行激光照射处理，即可使所述待处理多孔吸附材料再生；

所述待处理多孔吸附材料为吸附污染物的多孔吸附材料；

所述污染物包括有机污染物；

激光的能量密度范围为0.01～10MW/cm²。

2.根据权利要求1所述的多孔吸附材料的再生方法，其特征在于，

所述多孔吸附材料包括硅酸盐多孔吸附材料、铝酸盐多孔吸附材料、硅铝酸盐多孔吸附材料、活性氧化铝中的至少一种。

3.根据权利要求1所述的多孔吸附材料的再生方法，其特征在于，所述激光的波长为0.266～10.6μm。

4.根据权利要求1所述的多孔吸附材料的再生方法，其特征在于，所述激光的重复频率为0.001～30kHz。

5.根据权利要求1所述的多孔吸附材料的再生方法，其特征在于，所述激光的脉冲宽度大于0ms且小于1ms。

6.根据权利要求1所述的多孔吸附材料的再生方法，其特征在于，所述激光照射在所述待处理多孔吸附材料上的峰值功率密度大于1kw/mm²。

7.根据权利要求4所述的多孔吸附材料的再生方法，其特征在于，

所述激光的频率为8-15kHz，所述激光能量密度为1MW/cm²。

8.根据权利要求2所述的多孔吸附材料的再生方法，其特征在于，

所述多孔吸附材料对所述激光反射率小于0.05；

和/或所述待处理多孔吸附材料对所述激光反射率小于0.05；

和/或在所述待处理多孔吸附材料中加入试剂后对所述激光反射率小于0.05，所述试剂吸收所述激光；

所述试剂包括炭黑。

9.根据权利要求1所述的多孔吸附材料的再生方法，其特征在于，在所述混合物A中，所述待处理多孔吸附材料与水的体积比为1：5～1：100；

在所述中间产物中，所述待处理多孔吸附材料与水的体积比为1：1～20：1。

10.根据权利要求1所述的多孔吸附材料的再生方法，其特征在于，在步骤a-2)中，所述中间产物在所述平板上的厚度为0.1～2mm。

11.根据权利要求1所述的多孔吸附材料的再生方法，其特征在于，

所述步骤b)至少包括以下步骤：

在所述激光的照射下，将载有所述中间产物的平板沿第一方向移动，同时，所述激光沿第二方向移动，即可使所述待处理多孔吸附材料再生；

其中，所述第一方向与所述第二方向垂直。

12.根据权利要求11所述的多孔吸附材料的再生方法，其特征在于，所述平板沿第一方向的移动速度为0.1～10cm/s；

所述激光沿所述第二方向的移动速度为0.01～100m/s。

13.根据权利要求1所述的多孔吸附材料的再生方法，其特征在于，在再生过程中加载外场，所述外场选自温场、磁场、声场、微波中的任意一种或几种。