[发明专利]用于气流的湿式清洁的设备和方法

说明书

本发明涉及一种用于气流的湿式清洁的设备和方法，所述设备包括具有气体入口和气体出口的壳体，其中，在壳体中设置有布置在气流的流动路径中的至少一个第一洗涤段以用于通过洗涤液体清洁气流。在设备的壳体内部设置有至少一个风扇以调节在气流的流动路径上的空气压力。在壳体内部布置有用于桥接经由所述至少一个洗涤段的流动路径的旁路通道和布置在旁路通道中的调节装置以导出经由旁路通道引导的气流。

技术领域

本发明涉及一种根据权利要求1的前序部分所述的用于气流的湿式清洁的设备以及一种根据权利要求12的前序部分所述的用于气流的湿式清洁的方法。

背景技术

在半导体工业中，在清洁晶片时通常使用所谓的湿式清洗台，在所述湿式清洗台中将装载有多个晶片的载体箱沉入到并排布置的液体池中。在每个液体池中的排气被分别引导到排气系统中，其中，区别在于包含酸性的、碱性的、挥发性的有机化合物(“volatileorganic compounds，VOC”)的排气和普通的排气。

此外，已知所谓的单晶片湿式清洁系统，所述系统由多个过程腔组成，以便同时分开地处理多个晶片或者以便在不同腔中实施用于清洁单个晶片的不同过程步骤。在清洁过程期间，晶片相继地以不同的液态化学试剂喷射，所述化学试剂随后通过晶片的旋转又被移除。除了纯净水之外，典型的洗涤液体也是氨溶液、硫酸、过氧化氢、臭氧处理水、氢氟酸或异丙醇。在喷射和旋转晶片时，液体蒸发或者所述液体以小微滴的形式进入到排气通道中。

当蒸汽或微滴相互接触时，包含氨、氢氟酸或硫酸的排气流会由于盐晶的形成而在排气通道中产生问题。

通过这种类型的用于气流的湿式清洁的设备、即所谓的湿式洗涤机可以解决这些问题。原则上，湿式洗涤机良好地适用于将可溶于水的气体从排气流中移除。酸性的和碱性的气体可以通过借助碱性的或酸性的洗涤液体的化学吸收减少到小的程度。

湿式洗涤机用于从气体中移除固态、液态或气态的污物，其中，污物结合到引入气流中的洗涤液体上并且与该洗涤液体一起分离。

这种类型的湿式洗涤机或者说湿式分离器的作用方式基于将气体或颗粒从载有气体或颗粒的气流中运送到液体中。为此，形成在气体和液体之间的相应的相界面并且产生在这两个相之间的相对运动。在气体和液体尽可能强烈地混合的情况下实现相界面的措施是一个相到另一个相中的弥散。即例如在液体中产生气泡群或在气体中产生微滴簇，或者产生以下系统，在所述系统中液体或多或少地作为分散射束存在。使气体和液体相互接触的另外的原则上的可能性是使环流润湿的坯体

因此，湿式洗涤机是排气清洁或废气清洁的简单措施，其中，待清洁的气体在顺流或逆流中与细微分布的水滴或另外的洗涤液体接触，从而出现负载气流的清洁。

气体洗涤机通过液相和气相的伴随着相平衡的形成的重复混合和分离过程起作用。这种类型已知的是，液相和气相可以在顺流、叉流或逆流中受引导，如由德国工程师协会VDI 3679第2分册：2014年7月，Nassabscheider；Abgasreinigung durch Absorption保伊斯出版社，第29页得知。

在用于使颗粒从气流中分离的湿式洗涤机中，所产生的微滴通常大于待分离的颗粒并且因此能够相对简单地借助于微滴或液体分离器分离。

湿式洗涤机可以直接在产生待清洁气体的地方使用。出于该原因，湿式洗涤机通常必须符合关于支承面积和高度方面的限制，即尽可能紧凑地构型。

这种类型的湿式洗涤机具有两个并排布置的并且以逆流原理工作的洗涤阶段。因为气体到液相中的过渡与液体的有效表面有关，所以该洗涤阶段通常设计为填料柱。填料柱通常通过将合适的填料倾倒在筛底上来实现或者也通过所谓的结构化封装部实现，在该封装部中将大块的结构化材料装入到所述柱中。

特别地，在半导体工业中的应用中已知旁通管路，所述旁通管路安装在湿式洗涤机外部。这些旁通管路允许围绕湿式洗涤机引导气流，以便当出于维护原因必须打开湿式洗涤机时不中断排气流动。