[发明专利]特征图处理方法、装置、电子设备及存储介质

权利要求书

1.一种特征图处理方法，其特征在于，包括：

对原始图像进行卷积处理，得到对应的特征图；

对输入特征图进行全局池化处理，用得到的池化值构建通道维度向量；

使用若干不同尺寸的一维卷积核分别处理所述通道维度向量，得到若干一维向量；

将所述若干一维向量相加，以相加得到的和作为所述输入特征图的最终通道维度向量；

归一化所述最终通道维度向量，得到对应于每个所述输入特征图的权重因子；

将所述权重因子与所对应的输入特征图相乘，得到特征增强后的输出特征图。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述全局池化处理为全局平均池化处理或全局最大池化处理。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述使用若干不同尺寸的一维卷积核分别处理所述通道维度向量，得到若干一维向量，包括：

当所述一维卷积核的尺寸与步长与所述通道维度向量不匹配，导致所述一维卷积核不能实现对所述通道维度向量的所有元素的遍历时，则在卷积处理过程中对所述通道维度向量进行边界填充，使所述通道维度向量的所有元素均能够被所述一维卷积核遍历。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述对所述通道维度向量进行边界填充，包括：采用1、2或4的边界填充值对所述通道维度向量进行边界填充。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述归一化所述最终通道维度向量，包括：用Sigmoid激活函数、tanh函数或ReLu函数归一化所述最终通道维度向量。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述若干不同尺寸的一维卷积核包括三个尺寸分别为1×3、1×5和1×9的卷积核。

7.一种特征图处理装置，其特征在于，包括：

原始图像卷积处理模块，用于对原始图像进行卷积处理，得到对应的特征图；

池化模块，用于对输入特征图进行全局池化处理，用得到的池化值构建通道维度向量；

卷积模块，用于使用若干不同尺寸的一维卷积核分别处理所述通道维度向量，得到若干一维向量；

汇总模块，用于将所述若干一维向量相加，以相加得到的和作为所述输入特征图的最终通道维度向量；

归一化模块，用于归一化所述最终通道维度向量，得到对应于每个所述输入特征图的权重因子；

相乘模块，将所述权重因子与所对应的输入特征图相乘，得到特征增强后的输出特征图。

8.根据权利要求7所述的装置，其特征在于，所述卷积模块包括填充模块，所述填充模块用于当所述一维卷积核的尺寸与步长与所述通道维度向量不匹配，导致所述一维卷积核不能实现对所述通道维度向量的所有元素的遍历时，则在卷积处理过程中对所述通道维度向量进行边界填充，使所述通道维度向量的所有元素均能够被所述一维卷积核遍历。

9.一种电子设备，其特征在于，包括存储器、处理器及存储在所述存储器上并可在所述处理器上运行的计算机程序，所述处理器执行所述程序，以实现如权利要求1-6中任一所述的特征图处理方法。

10.一种非临时性计算机可读存储介质，其上存储有计算机程序，其特征在于，该程序被处理器执行，以实现如权利要求1-6中任一所述的特征图处理方法。