[发明专利]图案描绘装置有效
申请号: | 201911069205.4 | 申请日: | 2016-02-26 |
公开(公告)号: | CN110794651B | 公开(公告)日: | 2021-07-09 |
发明(设计)人: | 铃木智也;奈良圭;加藤正纪;渡辺智行;鬼头义昭;堀正和;林田洋祐;小宫山弘树 | 申请(专利权)人: | 株式会社尼康 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 薛平;谷敬丽 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 图案 描绘 装置 | ||
1.一种图案描绘装置,在既定宽度的具有可挠性的基板上,投射根据与电子元件用的图案相应的描绘数据而被调变强度的描绘光束来描绘前述图案,其具备:
基板搬送机构,支承前述基板以既定速度往与前述基板的宽度方向交叉的搬送方向进行搬送;
描绘装置,具有多个描绘模块,前述描绘模块沿着将投射于前述基板的前述描绘光束的点光于较前述基板的宽度窄的范围于前述宽度方向进行扫描而得到的描绘线来将前述图案描绘于前述基板上;并具备平台,前述平台以通过前述多个描绘模块的各个而描绘于前述基板上的前述图案彼此在前述基板的宽度方向相接合的方式保持前述多个描绘模块;
第1旋转机构,在包含以前述多个描绘模块的各个形成的前述描绘线的描绘面内,使前述平台与前述基板搬送机构可相对旋转;以及
第2旋转机构,设于前述多个描绘模块的各个,并个别地调整以前述多个描绘模块的各个形成的前述描绘线的各个的倾斜。
2.如权利要求1所述的图案描绘装置,其中前述基板于前述搬送方向为长条的片状基板;
前述基板搬送机构具有将前述片状基板的长条方向的一部分支承为圆筒面状的外周面,并具有绕既定的中心轴旋转以将前述片状基板往长条方向搬送的旋转圆筒。
3.如权利要求2所述的图案描绘装置,其进一步具备;
旋转位置检测机构,其由标尺部和编码器读头构成,前述标尺部于从前述旋转圆筒的中心轴起一定半径的外周面,具有沿着周方向以一定间距刻设的刻度,并与前述旋转圆筒一起绕前述中心轴旋转;前述编码器读头与前述标尺部的外周面对向配置,检测前述标尺部的前述刻度的周方向的位置变化;以及
控制装置,根据以前述旋转位置检测机构检测的前述刻度的位置变化,对前述片状基板的相对于预先设定的基准速度的搬送速度的变化进行测量。
4.如权利要求3所述的图案描绘装置,其中设于前述多个描绘模块的各个的前述第2旋转机构,根据测量到的前述搬送速度的变化并通过前述控制装置而被驱动控制。
5.如权利要求3所述的图案描绘装置,其中前述第1旋转机构根据测量到的前述搬送速度的变化并通过前述控制装置而被驱动控制。
6.如权利要求4或5所述的图案描绘装置,其中前述控制装置根据前述第1旋转机构或前述第2旋转机构的前述描绘线的倾斜,来调整前述多个描绘模块的各个的描绘时点。
7.如权利要求3所述的图案描绘装置,其中前述多个描绘模块的各个具有;
旋转多面镜,使投射于前述片状基板的前述描绘光束的点光往一方向偏向扫描;
f-θ透镜,将以前述旋转多面镜偏向扫描的前述描绘光束引导至前述片状基板上的前述描绘线;以及
圆柱透镜,设于前述f-θ透镜与前述片状基板之间,具有与前述描绘线延伸的方向大致平行的母线,将前述描绘光束聚光于与该母线正交的方向;
前述旋转多面镜的旋转速度是以根据所测量到的前述搬送速度的变化而动态地变更的方式控制。
8.一种图案描绘装置,具备绕既定的中心轴旋转,并且以从前述中心轴起于一定半径弯曲的外周面支承具有可挠性的基板的旋转圆筒,通过根据与应描绘的图案相应的描绘数据而被调变强度的描绘光束,于前述基板上描绘前述图案,其具备:
描绘装置,具有描绘模块,前述描绘模块具有将前述描绘光束偏向的旋转多面镜、与使偏向后的前述描绘光束入射而于以前述旋转圆筒的外周面支承的前述基板上作为点光而聚光的f-θ透镜系,将前述点光于前述中心轴延伸的方向以既定的主扫描速度一维地扫描;
旋转驱动机构,以在相对于以前述点光的一维的扫描所规定的描绘线交叉的搬送方向,前述基板以既定的搬送速度移动的方式使前述旋转圆筒旋转;以及
旋转位置测量机构,通过测量与前述旋转圆筒的前述中心轴同轴地旋转的标尺部的旋转角度位置的变化的编码器系统,检测前述基板的前述搬送速度的速度不均;
前述速度不均发生时,以前述主扫描速度与前述搬送速度的比率为一定的方式,根据前述速度不均而控制前述旋转多面镜的旋转速度。
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