[发明专利]一种高效FOLED及其制备方法在审
申请号: | 201911069592.1 | 申请日: | 2019-11-05 |
公开(公告)号: | CN110797469A | 公开(公告)日: | 2020-02-14 |
发明(设计)人: | 陈亮;雒玉蓉;金尚忠;徐时清;沈洋;张淑琴;黄帅;方强龙;何坤;杨茹;张振 | 申请(专利权)人: | 中国计量大学 |
主分类号: | H01L51/50 | 分类号: | H01L51/50 |
代理公司: | 33333 杭州杭欣专利代理事务所(普通合伙) | 代理人: | 潘欣欣 |
地址: | 310018 浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电子传输层 空穴传输层 阴极 电子注入层 空穴注入层 掺杂 发光层 制备 高纯度金属 弯曲耐久性 阳极功函数 接触性能 注入效率 最佳性能 烧结 缓冲层 基底 光滑 薄膜 | ||
1.一种高效FOLED,其特征在于:包括PET基板、ITO基底、以及依次叠于缓冲层之上的空穴注入层、空穴传输层、超薄发光层、电子传输层、电子注入层和阴极。
2.根据权利要求1所述的一种高效FOLED,其特征在于:所述空穴注入层为K掺杂NiO。
3.根据权利要求2所述的一种高效FOLED,其特征在于:所述K掺杂NiO制备方法为:用1273K在空气中烧结4h制备1mol%K2CO3的NiO:K2CO。
4.根据权利要求1所述的一种高效FOLED,其特征在于:所述空穴传输层为NPB,厚度为60nm。
5.根据权利要求1所述的一种高效FOLED,其特征在于:所述超薄发光层材料可替换为其他发光材料,厚度为30nm。
6.根据权利要求1所述的一种高效FOLED,其特征在于:所述电子传输层为TPBi,厚度为10nm。
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