[发明专利]具有改进的总节距稳定性的玻璃

权利要求书

1.一种在薄膜晶体管制造过程期间降低玻璃基材的总节距变化性的方法，其包括：

(A)制备玻璃，以氧化物的摩尔％计，所述玻璃包含：

SiO₂ 50-85，

Al₂O₃ 0-20，

B₂O₃ 0-10，

MgO 0-20，

CaO 0-20，

SrO 0-20，

BaO 0-20，和

(B)制备包含步骤(A)的玻璃的玻璃基材；

其中，

(i)至少部分通过测量LTTC中的压缩、HTTC中的压缩和SRTC中释放的诱导应力，对步骤(A)中制备的玻璃的SiO₂、Al₂O₃、B₂O₃、MgO、CaO、SrO和BaO的浓度进行选择；

(ii)玻璃的退火点大于或等于775℃；以及

(iii)玻璃具有：

(a)LTTC中的压缩小于或等于5.5ppm，

(b)HTTC中的压缩小于或等于40ppm，和

(c)SRTC中释放小于50％的诱导应力。

2.如权利要求1所述的方法，其中，玻璃具有LTTC中的压缩小于或等于5ppm。

3.如权利要求1所述的方法，其中，玻璃具有LTTC中的压缩小于或等于4.6ppm。

4.如权利要求1所述的方法，其中，玻璃具有HTTC中的压缩小于或等于38ppm。

5.如权利要求1所述的方法，其中，玻璃具有HTTC中的压缩小于或等于36ppm。

6.如权利要求1所述的方法，其中，玻璃具有在SRTC中释放了小于45％的诱导应力。

7.如权利要求1所述的方法，其中，玻璃具有在SRTC中释放了小于40％的诱导应力。

8.如权利要求1所述的方法，其中，以氧化物的摩尔％计，所述玻璃包含：

SiO₂ 68-74，

Al₂O₃ 10-13，

B₂O₃ 0-5，

MgO 0-6，

CaO 4-9，

SrO 1-8，

BaO 0-5。

9.如权利要求1所述的方法，其中，玻璃包含小于约0.005摩尔％的As₂O₃和Sb₂O₃。

10.如权利要求1所述的方法，其特征在于，玻璃包含小于约0.1摩尔％的Li₂O、Na₂O、K₂O或其组合。

11.如权利要求1所述的方法，其中，所述玻璃满足如下关系式：

1.05≤(MgO+CaO+SrO+BaO)/Al₂O₃≤1.6，

式中，Al₂O₃、MgO、CaO、SrO和BaO表示氧化物组分的摩尔％。

12.如权利要求1所述的方法，其中，所述玻璃满足如下关系式：

1.05≤(MgO+CaO+SrO+BaO)/Al₂O₃≤1.4，

式中，Al₂O₃、MgO、CaO、SrO和BaO表示氧化物组分的摩尔％。