[发明专利]一种气体输送系统及半导体处理装置在审
| 申请号： | 201911071144.5 | 申请日： | 2019-11-05 |
| 公开（公告）号： | CN112768332A | 公开（公告）日： | 2021-05-07 |
| 发明（设计）人： | 连增迪;左涛涛;吴狄;倪图强 | 申请（专利权）人： | 中微半导体设备（上海）股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;C23C16/455;C23C16/52;C23C16/50 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 潘颖 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 气体 输送 系统 半导体 处理 装置 | ||
1.一种气体输送系统，其特征在于，包括：
气体调节装置，所述气体调节装置的输入端接入处理气体，所述气体调节装置用于调节所述处理气体的压力后输出；
以及，多个支路气体管路，每一所述支路气体管路均包括依次连接的支路开关阀、缓冲器、第一气动阀及质量流量控制器，其中，所述支路开关阀的输入端与所述气体调节装置的输入端相连，所述质量流量控制器的输出端连接相应的反应腔。
2.根据权利要求1所述的气体输送系统，其特征在于，所述气体调节装置包括依次连接的主开关阀和调压阀，其中，所述主开关阀的输入端接入所述处理气体，所述调压阀的输出端连接所述支路开关阀的输入端。
3.根据权利要求2所述的气体输送系统，其特征在于，所述气体调节装置还包括连接于所述调压阀与所述支路开关阀之间的过滤器。
4.根据权利要求2所述的气体输送系统，其特征在于，所述气体调节装置还包括连接于所述调压阀与所述支路开关阀之间的压力表。
5.根据权利要求1所述的气体输送系统，其特征在于，所述缓冲器包括依次连接的输入管道、缓冲腔体和输出管道，其中，在垂直气体流向的方向上，所述缓冲腔体的截面宽度大于所述输入管道及所述输出管道的截面宽度。
6.根据权利要求5所述的气体输送系统，其特征在于，所述缓冲器还包括：
设置于所述缓冲腔体内的平衡板；
固定于所述平衡板朝向所述输出管道一侧、且与所述输出管道的端口相对应的提升阀；
以及，连接于所述缓冲腔体的内壁与所述平衡板朝向所述输出管道一侧板面的第一弹簧组件，及连接于所述缓冲腔体的内壁与所述平衡板朝向所述输入管道一侧板面的第二弹簧组件。
7.根据权利要求6所述的气体输送系统，其特征在于，所述平衡板在垂直气体流向的方向上的侧壁还设置有密封圈，且所述密封圈与所述缓冲腔体的内壁接触；
以及，所述平衡板上设置有多个气体通孔。
8.根据权利要求1所述的气体输送系统，其特征在于，所述质量流量控制器为压力式质量流量控制器。
9.根据权利要求1所述的气体输送系统，其特征在于，所述支路气体管路还包括连接于所述质量流量控制器和所述反应腔之间的第二气动阀。
10.一种半导体处理装置，其特征在于，所述半导体处理装置包括至少一个反应腔，及至少一个如权利要求1-9任意一项所述的气体输送系统；
其中，任意一所述反应腔与至少一个所述气体传输系统相连。
11.根据权利要求10所述的半导体处理装置，其特征在于，所述半导体处理装置为等离子体处理装置。
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