[发明专利]基于多维调节架的近红外二区共聚焦显微成像系统

权利要求书

1.基于多维调节架的近红外二区共聚焦显微成像系统，包括激光器、准直器、共聚焦扫描模块、扫描透镜、三目镜、显微物镜、信号光滤光片、针孔模块、光电倍增管、信号放大器、计算机、载物台、物镜安装器、电动对焦模块、控制盒、旋钮盒以及多维调节架，其特征在于：

外置的激光器的激光从光纤引出，通过准直器导入到共聚焦扫描模块；其中的共聚焦扫描模块中包含二向色镜和两块转轴互相垂直的扫描振镜，二向色镜把激发光反射到扫描振镜上，后者通过两次反射使得激发光向下传输；此后激光依次通过扫描透镜和三目镜内的镜筒透镜后被扩束，扩束后的平行光被显微物镜聚焦成点来激发探针发出荧光信号，构成共聚焦成像结构；

产生的荧光信号被显微物镜收集，原路返回通过上述光路，并透过共聚焦扫描模块中二向色镜以及信号光滤光片，此后通过针孔模块聚焦到另一光纤中，被在近红外二区响应的光电倍增管探测；光电倍增管完成光电转化后，输出的电信号通过信号放大器放大输入至计算机中；通过控制扫描振镜实现在X-Y平面的扫描，从而得到X-Y平面的一幅图像；

所述的共聚焦成像结构整体安装在多维调节架上，实现在X、Z方向上的平移以及绕着X、Y和Z三个轴的旋转；

所述的显微物镜安装在物镜安装器上,由电动对焦模块单独控制，物镜安装器连接电动对焦模块，通过调节连接在控制盒上的旋钮盒实现沿Z轴方向上的移动，用于精确地对焦到某平面或者在不同深度的近红外二区荧光层析成像。

2.根据权利要求1所述的基于多维调节架的近红外二区共聚焦显微成像系统，其特征在于：在显微物镜上方设置有遮光器，用于防止杂散光进入。

3.根据权利要求1或2所述的基于多维调节架的近红外二区共聚焦显微成像系统，其特征在于：实验动物放置在载物台上，所述载物台实现在X和Y方向的精细微调，帮助调整成像区域到所述显微物镜的下方。