[发明专利]用于高超内转式进气道的非轴对称广义内锥基准流场设计方法有效
申请号: | 201911078801.9 | 申请日: | 2019-11-07 |
公开(公告)号: | CN110925091B | 公开(公告)日: | 2021-06-22 |
发明(设计)人: | 金志光;周航 | 申请(专利权)人: | 南京航空航天大学 |
主分类号: | F02C7/04 | 分类号: | F02C7/04 |
代理公司: | 南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙) 32249 | 代理人: | 张婷婷 |
地址: | 210016 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 高超 内转式进气道 轴对称 广义 基准 设计 方法 | ||
1.一种用于高超内转式进气道的非轴对称广义内锥基准流场设计方法,其特征在于具体包括以下步骤:
(1)给定广义内锥的进口形状,得到所述进口形状的曲线各处局部曲率半径、曲率中心及相应的密切平面组;
(2)构造一系列入射/反射激波形状及反射激波波后压力分布相同的轴对称二维流场,分别位于各密切平面之内,具体方法为:
(2-1)根据来流条件、入射激波形状反设计第一段内锥压缩面和对应的A区流场;
(2-2)根据右行特征线和预估的反射激波形状和波前特定参数分布反设计第二段内锥压缩面和对应的B区流场;
(2-3)根据斜激波关系式求出反射激波波后参数;
(2-4)根据反射激波波后参数与目标分布规律的差异,重新预估步骤(2-2)中的反射激波波前特定参数分布,然后循环进行步骤(2-2)、(2-3),直到反射激波波后所需参数分布与给定的分布规律相同为止;
(2-5)根据反射激波波后参数反设计第一段中心体壁面和对应的C区流场;
(2-6)采用光滑过渡曲线作为第二段中心体壁面,得到对应的D区流场,至此,特殊设计的二维轴对称内锥流场已经完全求出;
(3)同时对前后两道激波应用密切轴对称技术,将各密切面上的二维轴对称流动按对应关系叠加组成空间三维流场。
2.根据权利要求1所述的用于高超内转式进气道的非轴对称广义内锥基准流场设计方法,其特征在于:该基准流场中各个密切平面上的入射和反射激波形状均相同,且与预设形状相同。
3.根据权利要求1所述的用于高超内转式进气道的非轴对称广义内锥基准流场设计方法,其特征在于:该基准流场中的三维曲面入射和反射激波分别交于中心体前缘和出口,实现来流乘波和出流消波。
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