[发明专利]显示基板及其制备方法、显示装置有效

专利信息
申请号: 201911081324.1 申请日: 2019-11-07
公开(公告)号: CN110783275B 公开(公告)日: 2022-12-09
发明(设计)人: 韩林宏;张毅;秦世开 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
主分类号: H01L21/84 分类号: H01L21/84;H01L21/28;H01L27/12;H01L29/417
代理公司: 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 代理人: 解婷婷;曲鹏
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 显示 及其 制备 方法 显示装置
【说明书】:

发明实施例提供一种显示基板及其制备方法、显示装置,该显示基板的制备方法,包括:形成衬底,所述衬底包括显示区域和弯折区域;在所述衬底之上形成无机层;在所述显示区域的无机层之上形成源漏极层;在所述弯折区域的无机层中形成凹槽;该显示基板的制备方法能够解决凹槽中金属薄膜层的残留问题,避免数据信号线之间短路。

技术领域

本发明涉及显示技术领域,具体涉及一种显示基板及其制备方法、显示装置。

背景技术

显示屏随着尺寸的增加,以及对于显示性能的要求的提高,现有的单层源漏层有时候无法满足需求,需引入两层源漏层(以下简称双源漏层产品)。源漏层不仅充当阵列基板源漏的作用,也作为显示屏的数据信号线和电源线等别的电信号。基板弯曲技术对于现如今的显示屏起到了很大的作用,将数据信号线弯折到显示屏背部,从而极大地减小显示屏的边框。现有的双源漏层产品,第一源漏层作为弯折区的数据信号线,用于连接显示区域和供电区域。现有的双源漏层的制备方法一般先在衬底的无机层中形成凹槽,再在凹槽之上沉积第一金属薄膜,将第一金属薄膜刻蚀形成数据信号线。这种制备方式需要在凹槽内刻蚀第一金属薄膜,容易在凹槽内产生金属残留,造成信号之间短路,影响显示效果。

发明内容

本发明实施例所要解决的技术问题是,提供一种显示基板及其制备方法、显示装置,该显示基板的制备方法能够解决弯折区域凹槽中金属薄膜层的残留问题,避免数据信号线之间短路。

为了解决上述技术问题,本发明实施例提供了一种显示基板的制备方法,包括:

形成衬底,所述衬底包括显示区域、供电区域以及将所述显示区域和所述供电区域连接的弯折区域;

在所述衬底之上形成无机层;

在所述无机层之上形成第一金属薄膜层;

将所述弯折区域之上的第一金属薄膜层去除,露出所述弯折区域之上的无机层;

在所述弯折区域之上的无机层中形成凹槽。

可选地,在所述弯折区域之上的无机层中形成凹槽之后,还包括:

在所述凹槽内形成平坦层;

在所述平坦层之上形成第二金属薄膜层;

将所述第二金属薄膜层形成用于连接所述显示区域和所述供电区域的数据信号线。

可选地,所述数据信号线位于所述凹槽的中部。

可选地,所述平坦层为有机材料。

可选地,在所述衬底之上形成无机层包括:

在所述衬底之上依次形成阻挡层、缓冲层、绝缘层以及层间介电层,其中,所述阻挡层、所述缓冲层、所述绝缘层以及所述层间介电层形成所述无机层。

可选地,在所述无机层之上形成第一金属薄膜层之后,还包括:

将所述显示区域之上的第一金属薄膜层形成源漏极层。

可选地,在所述弯折区域之上的无机层中形成凹槽包括:

通过第一次构图工艺在所述弯折区域的无机层中形成第一凹槽;

通过第二次构图工艺在所述第一凹槽的无机层中形成第二凹槽,所述第二凹槽的开口面积小于所述第一凹槽的开口面积。

可选地,在所述弯折区域之上的无机层中形成凹槽包括:

通过一次构图工艺在所述弯折区域的无机层中形成所述凹槽。

本发明实施例还提供了一种显示基板,该显示基板由前述的显示基板的制备方法制备而成

本发明实施例还提供了一种显示装置,包括前述的显示基板。

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