[发明专利]蚀刻组合物、形成图案的方法和制造显示装置的方法

说明书

提供一种蚀刻组合物、一种使用该蚀刻组合物形成图案的方法和一种使用该蚀刻组合物制造显示装置的方法。所述蚀刻组合物包括无机酸化合物、羧酸化合物、磺酸化合物、二醇化合物、含氮二羰基化合物、硫酸盐化合物和水。

技术领域

示例性实施例涉及一种蚀刻组合物。示例性实施例涉及一种蚀刻组合物、一种使用该蚀刻组合物形成图案的方法和一种使用该蚀刻组合物制造显示装置的方法。

背景技术

有机发光显示装置能够通过自身发光。有机发光显示装置可以具有减少的重量和厚度，并且可以具有适合于柔性显示装置的特性。对有机发光显示装置的使用已经增加。

发明内容

实施例涉及一种蚀刻组合物，所述蚀刻组合物包括无机酸化合物、羧酸化合物、磺酸化合物、二醇化合物、含氮二羰基化合物、硫酸盐化合物和水。

无机酸化合物可以包括从硝酸(HNO₃)、硫酸(H₂SO₄)和盐酸(HCl)中选择的至少一种。

羧酸化合物可以包括从乙酸(CH₃CO₂H)、苹果酸(C₄H₆O₅)、柠檬酸(C₆H₈O₇)、酒石酸(C₄H₆O₆)、乳酸(C₃H₆O₃)、甲酸(CH₂O₂)、琥珀酸(C₄H₆O₄)和富马酸(C₄H₄O₄)中选择的至少一种。

磺酸化合物可以包括从甲磺酸(CH₃SO₃H)、对甲苯磺酸(CH₃C₆H₄SO₃H)、苯磺酸(C₆H₅SO₃H)、氨基甲磺酸(CH₅NO₃S)和氨基磺酸(H₃NSO₃)中选择的至少一种。

二醇化合物可以包括从二甘醇(C₄H₁₀O₃)、乙二醇(HOCH₂CH₂OH)、乙醇酸(CH₂OHCOOH)、丙二醇(C₃H₈O₂)和三甘醇(C₆H₁₄O₄)中选择的至少一种。

含氮二羰基化合物可以包括从亚氨基二乙酸(C₄H₇NO₄)、咪唑烷-2,4-二酮(C₃H₄N₂O₂)、琥珀酰亚胺(C₄H₅NO₂)、戊二酰亚胺(C₅H₇NO₂)、天冬酰胺(C₄H₈N₂O₃)、谷氨酸(C₅H₉NO₄)、天冬氨酸(C₄H₇NO₄)、焦谷氨酸(C₅H₇NO₃)和马尿酸(C₉H₉NO₃)中选择的至少一种。