[发明专利]一种交替结构抗菌聚氨基酸衍生物或共聚物及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201911085707.6 申请日: 2019-11-08
公开(公告)号: CN110804175B 公开(公告)日: 2021-05-14
发明(设计)人: 张维;刘富强;曲巍 申请(专利权)人: 中国科学院理化技术研究所
主分类号: C08G69/08 分类号: C08G69/08;A01N37/46;A01P1/00
代理公司: 北京正理专利代理有限公司 11257 代理人: 赵晓丹
地址: 100190 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 交替 结构 抗菌 氨基酸 衍生物 共聚物 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种交替结构抗菌聚氨基酸衍生物或共聚物,其特征在于,所述聚氨基酸衍生物或共聚物具有如下结构:

简写为[AB]n

其中A为B为

n为正整数,n=2-10000;

R1的末端含有氨基;

R2为:

R3为:

-H,-CH3

且其制备方法,包括如下步骤:

1)聚合反应

将伯胺和醛加入有机溶剂W中,在0-100℃温度区间内反应0.1-120小时后得到含碳氮双键的中间产物F;将中间产物F、异氰酸盐和强酸Y溶于溶剂X中,在0-100℃温度区间内反应0.1-240小时,得到含有氨基保护基R4和R5的聚氨基酸衍生物;

其中R1末端包含氨基,且氨基保护基R4与R1末端氨基上的氮原子相连;

2)脱保护基反应:

将含氨基保护基R4和R5的聚氨基酸衍生物用脱保护剂P在0-120℃温度区间内反应0.1-150小时后脱去R4基团,得到不含R4基团的聚氨基酸衍生物;

或者,步骤2)进一步包括:

将所得不含R4基团的聚氨基酸衍生物用脱保护剂Q在0-120℃温度区间内反应0.1-150小时脱去R5基团,得到聚氨基酸共聚物;

或者,步骤2)包括:

将含氨基保护基R4和R5的聚氨基酸衍生物用脱保护剂Q在0-120℃温度区间内反应0.1-150小时后脱去R5基团,得到不含R5基团的聚氨基酸共聚物;将所得不含R5基团的聚氨基酸共聚物用脱保护剂P在0-120℃温度区间内反应0.1-150小时脱去R4基团,得到聚氨基酸共聚物。

2.根据权利要求1所述的交替结构抗菌聚氨基酸衍生物或共聚物,其特征在于,R1为:

3.一种权利要求1或2所述交替结构抗菌聚氨基酸衍生物或共聚物的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:

1)聚合反应

将伯胺和醛加入有机溶剂W中,在0-100℃温度区间内反应0.1-120小时后得到含碳氮双键的中间产物F;将中间产物F、异氰酸盐和强酸Y溶于溶剂X中,在0-100℃温度区间内反应0.1-240小时,得到含有氨基保护基R4和R5的聚氨基酸衍生物;

其中R1末端包含氨基,且氨基保护基R4与R1末端氨基上的氮原子相连;

2)脱保护基反应:

将含氨基保护基R4和R5的聚氨基酸衍生物用脱保护剂P在0-120℃温度区间内反应0.1-150小时后脱去R4基团,得到不含R4基团的聚氨基酸衍生物;

或者,步骤2)进一步包括:

将所得不含R4基团的聚氨基酸衍生物用脱保护剂Q在0-120℃温度区间内反应0.1-150小时脱去R5基团,得到聚氨基酸共聚物;

或者,步骤2)包括:

将含氨基保护基R4和R5的聚氨基酸衍生物用脱保护剂Q在0-120℃温度区间内反应0.1-150小时后脱去R5基团,得到不含R5基团的聚氨基酸共聚物;将所得不含R5基团的聚氨基酸共聚物用脱保护剂P在0-120℃温度区间内反应0.1-150小时脱去R4基团,得到聚氨基酸共聚物。

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