[发明专利]一种提高氮化硅蚀刻均匀性的酸性蚀刻液在审
| 申请号： | 201911088498.0 | 申请日： | 2019-11-08 |
| 公开（公告）号： | CN110878208A | 公开（公告）日： | 2020-03-13 |
| 发明（设计）人： | 李少平;张庭;郝晓斌;贺兆波;冯凯;王书萍;尹印;万杨阳;张演哲 | 申请（专利权）人： | 湖北兴福电子材料有限公司 |
| 主分类号： | C09K13/06 | 分类号： | C09K13/06 |
| 代理公司： | 宜昌市三峡专利事务所 42103 | 代理人： | 成钢 |
| 地址： | 443007 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 提高 氮化 蚀刻 均匀 酸性 | ||
【权利要求书】：
1.一种提高氮化硅蚀刻均匀性的酸性蚀刻液，其特征在于，所述方法中的蚀刻液成分包括占蚀刻液总重量≥88%的磷酸、0.01-10%的醇醚类、0.001-2%的表面活性剂。
2.根据权利要求1所述的提高氮化硅蚀刻均匀性的酸性蚀刻液，其特征在于，所述蚀刻液中的磷酸浓度为82-87%。
3.根据权利要求1所述的提高氮化硅蚀刻均匀性的酸性蚀刻液，其特征在于，所述蚀刻液中的醇醚类包括二乙二醇单甲醚、丙二醇丁醚、二丙二醇甲醚、二乙二醇丁醚、三乙二醇乙醚、三丙二醇单甲醚、三甘醇单丁醚中的至少一种。
4.根据权利要求1所述的提高氮化硅蚀刻均匀性的酸性蚀刻液，其特征在于，所述蚀刻液中的表面活性剂包括脂肪醇聚氧乙烯醚磷酸酯MOA-7P、壬基酚聚氧乙烯醚NP-10、聚乙二醇硬脂酸酯EGMS、烷基酚聚氧乙烯醚硫酸钠、月桂酰氨乙基硫酸钠、醇醚羧酸盐中的至少一种。
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