[发明专利]光罩及曝光设备在审
| 申请号： | 201911092135.4 | 申请日： | 2019-11-08 |
| 公开（公告）号： | CN112782930A | 公开（公告）日： | 2021-05-11 |
| 发明（设计）人： | 许航嘉;李启东;许建勇 | 申请（专利权）人： | 南昌欧菲显示科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/40 | 分类号： | G03F1/40 |
| 代理公司： | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人： | 郝传鑫;熊永强 |
| 地址： | 330013 江西省南昌*** | 国省代码： | 江西;36 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 曝光 设备 | ||
1.一种光罩，其特征在于，包括：
相对设置的第一基板和第二基板；
所述第一基板在背对所述第二基板的一侧设有第一图案层，所述第二基板在背对所述第一基板的一侧设有第二图案层，所述第一图案层和所述第二图案层用于使待光刻物形成光刻图案。
2.如权利要求1所述的光罩，其特征在于，所述光罩还包括：第一保护层；所述第一图案层夹设在所述第一保护层和所述第一基板之间。
3.如权利要求2所述的光罩，其特征在于，所述光罩还包括：第二保护层；所述第二图案层夹设在所述第二保护层和所述第二基板之间。
4.如权利要求3所述的光罩，其特征在于，所述第一保护层和所述第二保护层均为透明基板。
5.如权利要求4所述的光罩，其特征在于，所述第一保护层的厚度大于或等于所述第一基板的厚度；所述第二保护层的厚度大于或等于所述第二基板的厚度。
6.如权利要求3所述的光罩，其特征在于，所述第一保护层和所述第二保护层均为防静电膜层。
7.如权利要求6所述的光罩，其特征在于，所述第一保护层被设置成具有与所述第一图案层相同的形状。
8.如权利要求6所述的光罩，其特征在于，所述第二保护层被设置成具有与所述第二图案层相同的形状。
9.如权利要求1至8任一项所述的光罩，其特征在于，所述第一图案层和所述第二图案层互为镜像图案层。
10.一种曝光设备，其特征在于，包括如权利要求1至9任一项所述的光罩。
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G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
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