[发明专利]一种柔性透明导电薄膜制备方法

权利要求书

1.一种柔性透明导电薄膜制备方法，其特征在于：所述方法包括如下步骤：

(1)在柔性衬底上依次制备纳米线导电薄膜层及水溶性聚合物薄膜层；

(2)通过电雾化水系溶液在所述聚合物薄膜表面沉积微纳尺度水滴，利用聚合物的水溶性刻蚀出网格图案结构，刻蚀至导电纳米线层完全暴露形成网格化聚合物薄膜；

(3)以所述网格化聚合物薄膜为掩膜层对纳米线导电薄膜层进行氧等离子体处理，并去除未被掩蔽的纳米线导电薄膜；

(4)利用去离子水去除残留的聚合物薄膜，干燥，得到柔性透明导电薄膜；

所述步骤(1)中，纳米线导电薄膜层厚度为0.1～100微米，所述聚合物薄膜层厚度为0.1～100微米；所述聚合物薄膜层包括天然蛋白质、丝素蛋白、羧甲基纤维素、甲基纤维素、乙基纤维素或者聚乙二醇；

所述步骤(2)中电雾化所用的溶液为水基溶液，所述水基溶液为去离子水中加入表面活性剂，所述表面活性剂包括乙醇、DMF、DMSO、酯类、羧酸盐或者磺酸盐；

运用电雾化方式进行处理时，装置的喷嘴与柔性衬底的距离为10毫米～80毫米，溶液注入时的流速为30微升/分钟～250微升/分钟，柔性衬底进行加热并旋转，加热温度为10℃～50℃，旋转转速为10转/分钟～100转/分钟，喷雾时间为5min～50min，施加电压为5千伏～15千伏，雾化时间为5分钟～60分钟。

2.如权利要求1所述的柔性透明导电薄膜制备方法，其特征在于：所述步骤(3)中纳米线导电薄膜层为金属纳米线材料，所述金属纳米线未被掩蔽区域生成金属氧化物，然后采用酸系刻蚀液对基片进行湿法刻蚀，金属氧化物发生化学反应并溶解，未被保护层掩蔽的纳米线导电薄膜被刻蚀去除。

3.如权利要求1所述的柔性透明导电薄膜制备方法，其特征在于：所述步骤(3)中纳米线导电薄膜层为碳纳米管材料，所述碳纳米管被氧等离子体刻蚀去除。

4.如权利要求1所述的柔性透明导电薄膜制备方法，其特征在于：所述步骤(1)中采用溶液制膜法制备所述纳米线导电薄膜层及所述水溶性聚合物薄膜层，所述溶液制膜法为旋涂、丝网印刷、喷涂、刮刀涂布、狭缝涂布、浸泡涂布、压印中的一种。

5.如权利要求1所述的柔性透明导电薄膜制备方法，其特征在于：所述步骤(1)中所述柔性衬底包括柔性玻璃和柔性聚合物衬底，所述柔性衬底为由聚二甲(基)硅氧烷、聚碳酸酯、聚酰亚胺、聚对苯二甲酸乙二酯中的一种或多种制备成的单层或多层衬底。

6.如权利要求1所述的柔性透明导电薄膜制备方法，其特征在于：所述步骤(2)中电雾化工艺产生的静电库仑力克服液体表面张力，使得液体破碎成细小雾滴。

7.如权利要求2所述的柔性透明导电薄膜制备方法，其特征在于：所述步骤(4)所述酸系刻蚀液为醋酸、稀硝酸、硫酸或者盐酸。

8.如权利要求1～7中任一项所述的柔性透明导电薄膜制备方法，其特征在于：所述步骤(2)中所述网格图案结构周期为0.1～40微米，所述网格图案结构中心距为0.1～20微米。