[发明专利]一种大视场消畸变离轴反射光学系统及设计方法有效
申请号: | 201911093643.4 | 申请日: | 2019-11-11 |
公开(公告)号: | CN110908098B | 公开(公告)日: | 2021-10-01 |
发明(设计)人: | 袁立银;谢佳楠;王跃明;何志平 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海技术物理研究所 |
主分类号: | G02B17/06 | 分类号: | G02B17/06;G02B27/00 |
代理公司: | 上海沪慧律师事务所 31311 | 代理人: | 郭英 |
地址: | 200083 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 视场 畸变 反射 光学系统 设计 方法 | ||
本发明公开了一种大视场消畸变离轴反射光学系统及设计方法。光学系统由主镜、次镜、场镜和孔径光栏组成。来自无穷远的光线经过主镜反射,又经次镜反射,再经场镜反射,最终到达像面。其中,主镜为偶次非球面离轴凸面,次镜为偶次非球面离轴凹面,场镜为凸自由曲面反射镜。孔径光栏设置在主镜处或者在主镜和次镜之间,后者可实现像方远心设计。在两镜模型中,在焦面前设置反射式场镜,面型设置为扩展多项式,加入畸变控制后进行优化。本发明的优点是:结构简单、全反射式、光学效率高、大视场和低畸变,特别适合用作大视场推扫成像仪器的光学系统,以及大视场光谱成像仪器中的望远物镜。
技术领域
本发明涉及光学系统和光学设计,特别是指一种大视场消畸变离轴反射光学系统及其设计方法。
背景技术
推帚式成像光谱仪在航天航空应用中十分广泛,可用作矿物识别、农林监测、军事侦察、海色及大气探测等。推帚式光谱成像仪,为提高作业效率和节约飞行成本,对光学系统的视场都提出了较高要求;并且为减少定标和后期数据处理的工作量,对仪器光学系统的畸变也提出了很高的要求,因此在光学系统设计过程中,尽量考虑畸变的消除非常必要。
现有技术存在的主要问题是:
(1)透射式物镜的色差校正比较困难,同轴反射系统视场有限且有中心遮拦。(2)离轴两反系统视场大但存在较大畸变,准远心离轴三反视场中等,离轴四反或五反系统比较复杂,因此,通常的反射系统难以兼顾结构简单、大视场、优良像质和像方远心设计。(3)成像光谱仪通常是望远物镜和光谱仪独立设计,两者光瞳匹配,通常为有利于系统对接设计和装调,一般将光谱仪设计成物方远心或准远心,因此物镜也需要像方远心或准远心。而对于中小F数的长狭缝推扫式光谱仪,大视场低畸变准远心的望远物镜结构形式可选择空间极小。
发明内容
本发明的目的是弥补现有技术的不足,提供一种大视场消畸变离轴反射光学系统。
为了达到上述目的,本发明的技术方案是:
图1是本发明的光路示意图,由主镜1、次镜2、场镜3和孔径光栏4组成。来自无穷远的光线经过主镜1反射至次镜2,再经次镜2反射至场镜3,最终到达像面。其中,主镜1为偶次非球面离轴凸面,次镜2为偶次非球面离轴凹面,场镜3为凸面。孔径光栏4设置在主镜1处或者在主镜1和次镜2之间。
光学系统的设计原型是离轴两反系统,在两反初始结构建模优化的基础上,巧妙地,在像面附近,加入自由曲面场镜3,达到有效校正畸变的设计。
光学系统的设计方法是:先建立两镜系统模型,将孔径光栏4设置在主镜1处,控制系统初级参数和像质进行优化;再在两镜模型中,在焦面前设置反射式场镜3,通过坐标变换,设置y离轴至场镜3的几何中心附近,设置场镜3绕x轴倾斜一定角度放置,将面型设置为关于y轴对称的扩展多项式,加入畸变控制后进行优化,将孔径光栏4设置在主镜1和次镜2之间可实现像方远心设计。这种光栏位置设置,在系统的初级参数要求较高时,例如F数、视场、体积要求较高时,会出现入射光线和反射光线的部分交叠,不适合放置完整的光栏,光栏只起到限制光束部分口径的作用,但这对成像光谱仪而言,是可以应用的。在望远物镜和后方光谱仪对接之后,光谱仪上的光栏将起到限制光束口径的作用,是整个成像光谱仪的光栏,因此,望远镜上可以没有实际的或者完整的光栏。
本发明中的场镜3为反射镜,面型设计为易于金刚石单点车削加工的扩展多项式,材料可选红外玻璃或者光学铝等,金刚石车削成型并结合抛光技术,采用全息元件进行光学加工检测,或者采用系统配修检测。
由于上述技术方案的使用,本发明的大视场消畸变离轴反射光学系统的优点是:系统结构简单,只包含三个光学元件;全反射式,谱段使用自由,光学效率非常高;能实现40°及以上的大视场;沿轨方向畸变非常小,穿轨方向各像元相对中心像元的畸变非常小;孔径光栏4设置在主镜1和次镜2之间可实现像方远心或准远心,可与物方远心或准远心的光谱仪实现光瞳匹配。特别适合作为大视场光谱成像仪器中的望远物镜。
附图说明
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