[发明专利]形成在用于等离子体处理腔室的静电吸盘中的接地电极

权利要求书

1.一种衬底支撑组件，包括：

主体，所述主体具有外顶表面、外侧表面和外底表面，所述外顶表面、所述外侧表面和所述外底表面包围所述主体的内部，所述主体包括：

接地电极，所述接地电极竖直地设置在所述主体的所述内部并邻近所述外侧表面。

2.如权利要求1所述的衬底支撑组件，还包括：

加热器，所述加热器设置在所述主体的所述内部中；

RF电极，所述RF电极设置在所述主体的所述内部中；以及

HV ESC电极，所述HV ESC电极设置在所述主体的所述内部中。

3.如权利要求2所述的衬底支撑组件，其中所述加热器、所述RF电极、所述HV ESC电极中的每个设置在所述主体中的平行层上。

4.如权利要求3所述的衬底支撑组件，其中所述主体由氮化铝或氧化铝制成。

5.如权利要求1所述的衬底支撑组件，还包括：

轴，所述轴耦接到所述主体的所述外底表面。

6.如权利要求1所述的衬底支撑组件，其中所述接地电极具有圆柱形形状并邻近所述外侧表面设置。

7.如权利要求6所述的衬底支撑组件，其中所述接地电极是笼。

8.如权利要求6所述的衬底支撑组件，其中所述接地电极沿着所述圆柱形形状的半径连续地为固体。

9.一种用于形成ESC的方法，所述方法包括：

烧结AlN主体，所述AlN主体中设置有HV ESC电极；

沿着所烧结的AlN主体的一个或多个外表面设置接地电极；

用介电材料来包围所述接地电极和所烧结的主体以形成ESC主体；以及

将所述介电材料与所述ESC主体连结以形成所述ESC。

10.如权利要求9所述的方法，其中所述接地电极是圆柱形形状的并是沿着所述ESC主体的半径连续的，并且同轴接地回程被附加地提供到所述接地电极。

11.如权利要求9所述的方法，其中所述接地电极是设置在所述ESC主体中的竖直笼形状。

12.如权利要求9所述的方法，还包括：

将金属接地管附接到所述接地电极，其中所述金属接地管设置在附接到所述ESC主体的管座中。

13.一种用于形成ESC的方法，所述方法包括：

在第一陶瓷片材的顶表面上印刷HV ESC电极；

在第二陶瓷片材的顶表面上印刷接地平面RF电极；

在所述第二陶瓷片材中形成第二通孔，所述第二通孔连接到所述接地平面RF电极；

在第三陶瓷片材的顶表面上印刷加热器电极；

在所述第三陶瓷片材中形成第三通孔，所述第三通孔与所述第二通孔竖直地对准；

在第四陶瓷片材的顶表面上印刷接地网；

在所述第四陶瓷片材中形成第四通孔，所述第四通孔与所述第二通孔竖直地对准；以及

在所述第一陶瓷片材的所述顶表面上放置第五陶瓷片材以形成所述ESC。

14.如权利要求13所述的方法，还包括：

用导电材料来填充所述通孔。

15.如权利要求14所述的方法，其中所述接地电极是圆柱形形状的并是沿着所述ESC主体的半径连续的。

16.如权利要求14所述的方法，其中所述接地电极是设置在所述ESC中的竖直笼形状。