[发明专利]一种带耦合剂注入功能的延时块在审
申请号: | 201911095145.3 | 申请日: | 2019-11-11 |
公开(公告)号: | CN112782285A | 公开(公告)日: | 2021-05-11 |
发明(设计)人: | 邓小娜 | 申请(专利权)人: | 上海艾因蒂克实业有限公司 |
主分类号: | G01N29/24 | 分类号: | G01N29/24;G01N29/28 |
代理公司: | 上海昱泽专利代理事务所(普通合伙) 31341 | 代理人: | 孟波 |
地址: | 201713 上海市青浦区朱家*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 耦合 注入 功能 延时 | ||
1.一种带耦合剂注入功能的延时块,包括阵列探头,所述阵列探头包括探头上部和探头下部,所述探头下部为中空的圆柱形,所述探头上部为圆形,所述探头下部的直径小于探头上部的直径,其特征在于,所述探头上部设有导流系统,所述导流系统凹陷设于探头上部的表面。
2.根据权利要求1所述的一种带耦合剂注入功能的延时块,其特征在于,所述导流系统包括数个凸起,所述凸起之间设有导流槽,所述凸起与凸起之间设有毛细孔,所述毛细孔内注入耦合剂。
3.根据权利要求2所述的一种带耦合剂注入功能的延时块,其特征在于,所述凸起为方形凸起。
4.根据权利要求3所述的一种带耦合剂注入功能的延时块,其特征在于,所述凸起整齐排列,每排凸起与相邻的整排凸起之间设有导流槽,每列凸起与相邻的整列凸起之间设有导流槽。
5.根据权利要求2所述的一种带耦合剂注入功能的延时块,其特征在于,所述耦合剂设于探头下部的中空部分内,由毛细孔导入导流槽中。
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