[发明专利]一种带耦合剂注入功能的延时块在审

专利信息
申请号: 201911095145.3 申请日: 2019-11-11
公开(公告)号: CN112782285A 公开(公告)日: 2021-05-11
发明(设计)人: 邓小娜 申请(专利权)人: 上海艾因蒂克实业有限公司
主分类号: G01N29/24 分类号: G01N29/24;G01N29/28
代理公司: 上海昱泽专利代理事务所(普通合伙) 31341 代理人: 孟波
地址: 201713 上海市青浦区朱家*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 耦合 注入 功能 延时
【权利要求书】:

1.一种带耦合剂注入功能的延时块,包括阵列探头,所述阵列探头包括探头上部和探头下部,所述探头下部为中空的圆柱形,所述探头上部为圆形,所述探头下部的直径小于探头上部的直径,其特征在于,所述探头上部设有导流系统,所述导流系统凹陷设于探头上部的表面。

2.根据权利要求1所述的一种带耦合剂注入功能的延时块,其特征在于,所述导流系统包括数个凸起,所述凸起之间设有导流槽,所述凸起与凸起之间设有毛细孔,所述毛细孔内注入耦合剂。

3.根据权利要求2所述的一种带耦合剂注入功能的延时块,其特征在于,所述凸起为方形凸起。

4.根据权利要求3所述的一种带耦合剂注入功能的延时块,其特征在于,所述凸起整齐排列,每排凸起与相邻的整排凸起之间设有导流槽,每列凸起与相邻的整列凸起之间设有导流槽。

5.根据权利要求2所述的一种带耦合剂注入功能的延时块,其特征在于,所述耦合剂设于探头下部的中空部分内,由毛细孔导入导流槽中。

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