[发明专利]一种振膜及发声装置

权利要求书

1.一种振膜，其特征在于，所述振膜包括中心部，所述中心部的表面具有第一连接区和第二连接区；

所述第一连接区和所述第二连接区设有微纳米结构；

所述第一连接区被配置为通过所述微纳米结构与音圈连接；

所述第二连接区被配置为通过所述微纳米结构与硬质球顶连接。

2.根据权利要求1所述的振膜，其特征在于，所述中心部为层状结构，所述第一连接区与所述第二连接区分别形成在所述层状结构的相对的两个表面上；

所述第一连接区上至少与音圈连接的区域设有所述微纳米结构。

3.根据权利要求1所述的振膜，其特征在于，所述振膜还包括固定部，所述固定部与所述中心部一体成型；

所述固定部的表面具有第三连接区，所述第三连接区设有所述微纳米结构；

所述第三连接区被配置为通过所述微纳米结构与振膜支架连接。

4.根据权利要求1所述的振膜，其特征在于，所述微纳米结构为形成于振膜表面的多个凸形或凹形结构。

5.根据权利要求4所述的振膜，其特征在于，所述凸形结构的高度或所述凹形结构的深度为2μm-30μm。

6.根据权利要求4所述的振膜，其特征在于，所述凸形或凹形结构的形状为圆形或/多边形。

7.根据权利要求4所述的振膜，其特征在于，所述凸形或凹形结构的形状的最大外轮廓尺寸d1为5μm-50μm。

8.根据权利要求4所述的振膜，其特征在于，相邻两个所述凸形或凹形结构沿排列方向的间距d2为5μm-200μm。

9.根据权利要求1所述的振膜，其特征在于，具有所述微纳米结构的表面的粗糙度为Ra0.5-Ra2.0。

10.根据权利要求1所述的振膜，其特征在于，所述振膜的成型工艺为热压成型工艺。

11.一种发声装置，其特征在于，包括：

振动系统，所述振动系统包括音圈、硬质球顶以及权利要求1-10任一所述的振膜；所述音圈和所述硬质球顶分别连接于所述振膜；

磁路系统，所述磁路系统包括磁铁，所述磁铁被配置为用于提供磁场；

所述振动系统被配置为在所述磁路系统的磁场作用下能够将电信号转换成声音信号。