[发明专利]等离子体处理装置

权利要求书

1.一种等离子体处理装置，其特征在于，

该等离子体处理装置具有：

处理室，其在内部设置有用于载置基板的载置台，对基板实施等离子体处理；

高频电源，其对所述载置台施加偏压用的高频电力；

排气口，其设置于所述载置台的周围的比所述载置台的载置基板的载置面低的位置，对所述处理室内进行排气；

分隔构件，其由导电性材料形成，与接地电位连接，以覆盖所述排气口的方式配置，将所述处理室分隔成对所述基板进行等离子体处理的处理区域和与所述排气口相连的排气区域；以及

多个板状构件，其由导电性材料形成，与接地电位连接，配置到所述处理室的内表面，

其中，所述多个板状构件配置为长度方向是与所述载置台的侧面平行的方向，并且所述多个板状构件隔开间隔地并列配置。

2.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于，

所述板状构件至少配置到所述排气区域内的相对于排气向所述排气口的流动比所述排气口靠上游侧的位置。

3.根据权利要求2所述的等离子体处理装置，其特征在于，

所述分隔构件在所述载置台的周围以在相邻的所述分隔构件之间形成有中间口的方式分开地配置有多个，

所述板状构件至少配置到被所述分隔构件覆盖的部分。

4.根据权利要求2所述的等离子体处理装置，其特征在于，

所述分隔构件在所述载置台的周围以在相邻的所述分隔构件之间形成有中间口的方式分开地配置有多个，

所述板状构件至少配置到从所述排气口到所述中间口的部分。

5.根据权利要求2～4中任一项所述的等离子体处理装置，其特征在于，

所述板状构件以包围所述载置台的周围的方式配置。

6.根据权利要求2～4中任一项所述的等离子体处理装置，其特征在于，

相比所述排气口，在除了所述排气口以外的部分配置更多的所述板状构件。

7.根据权利要求2～4中任一项所述的等离子体处理装置，其特征在于，

所述板状构件与所述分隔构件连接。

8.根据权利要求2～4中任一项所述的等离子体处理装置，其特征在于，

在所述板状构件与所述分隔构件之间形成有间隙。

9.根据权利要求2～4中任一项所述的等离子体处理装置，其特征在于，

所述板状构件与所述处理室的底面连接。

10.根据权利要求2～4中任一项所述的等离子体处理装置，其特征在于，

在所述板状构件的端部沿着与所述载置台的侧面交叉的交叉方向设置有密封板。

11.根据权利要求2～4中任一项所述的等离子体处理装置，其特征在于，

在所述排气口从排气路径的下游朝向上游设置有由导电性材料形成且具有多个开口的第1开口挡板、第2开口挡板以及第3开口挡板，

所述第1开口挡板被接地，

所述第2开口挡板和所述第3开口挡板设为电悬浮状态。