[发明专利]支撑体供应装置、叠层体制造装置有效

专利信息
申请号: 201911097742.X 申请日: 2014-08-29
公开(公告)号: CN110993829B 公开(公告)日: 2022-07-26
发明(设计)人: 大野正胜;横山浩平;井户尻悟;池田寿雄;神保安弘;安达广树;平形吉晴;江口晋吾 申请(专利权)人: 株式会社半导体能源研究所
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56;B32B17/06;B65G49/06
代理公司: 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 代理人: 程晨
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 支撑 供应 装置 体制
【权利要求书】:

1.一种制造装置,包括:

第一吸盘;

第二吸盘;

具有切割器的切口形成部;

具有第三吸盘的剥离部;以及

工作台,

其中,所述第一吸盘被配置为在所述第一吸盘支撑支撑体的第二表面时,将所述支撑体和与所述支撑体的第一表面接触的隔膜传送到所述切口形成部,并且将所述支撑体和所述隔膜放置于所述工作台,

其中,所述第二吸盘被配置为在所述第二吸盘支撑所述支撑体的所述第二表面时,在所述切口形成部与所述剥离部之间传送所述支撑体及所述隔膜,

其中,不穿过所述隔膜的切口通过所述切口形成部中的所述切割器形成于所述支撑体的端部,以及

其中,所述第三吸盘被配置为保持所述隔膜,并接着从所述支撑体剥离所述隔膜。

2.根据权利要求1所述的制造装置,其中,所述工作台被配置为在所述切口形成部中旋转。

3.根据权利要求1所述的制造装置,还包括预处理部,该预处理部包括:

第一预处理机构,使用超声波照射所述支撑体的所述第一表面,并一边喷射压缩空气一边抽吸气氛;或者

第二预处理机构,使用紫外线照射所述支撑体的所述第一表面。

4.根据权利要求1所述的制造装置,还包括预处理部,该预处理部包括:

第一预处理机构,使用超声波照射所述支撑体的所述第一表面,并一边喷射压缩空气一边抽吸气氛;以及

第二预处理机构,使用紫外线照射所述支撑体的所述第一表面。

5.根据权利要求1所述的制造装置,还包括薄片供应部,该薄片供应部包括:

托盘,其中储存有包括所述支撑体及所述隔膜的叠层膜;

重送防止机构,对由所述第一吸盘从所述托盘拾起的所述叠层膜的端部喷射气体;以及

重送检测机构,检测由第一传送机构拾起的所述叠层膜是否是一个。

6.根据权利要求1所述的制造装置,还包括薄片供应部,该薄片供应部包括:

开卷机构,将包括处于被卷起的状态的所述支撑体及所述隔膜的叠层膜开卷并供应所述叠层膜;

切割机构,将所述叠层膜切割成预定大小的薄片状叠层膜;以及

托盘,其中储存有所述薄片状叠层膜。

7.一种制造装置,包括:

第一吸盘;

第二吸盘;

具有切割器的切口形成部;

具有第三吸盘的剥离部;以及

工作台,

其中,所述第一吸盘被配置为在所述第一吸盘支撑支撑体的第二表面时,将所述支撑体和与所述支撑体的第一表面接触的隔膜传送到所述切口形成部,并且将所述支撑体和所述隔膜放置于所述工作台,

其中,所述第二吸盘被配置为在所述第二吸盘支撑所述支撑体的所述第二表面时,在所述切口形成部与所述剥离部之间传送所述支撑体及所述隔膜,

其中,不穿过所述隔膜的切口通过所述切口形成部中的所述切割器形成于所述支撑体的端部,以及

其中,所述第三吸盘被配置为保持并扭转所述隔膜,并接着从所述支撑体剥离所述隔膜。

8.根据权利要求7所述的制造装置,其中,所述工作台被配置为在所述切口形成部中旋转。

9.根据权利要求7所述的制造装置,还包括预处理部,该预处理部包括:

第一预处理机构,使用超声波照射所述支撑体的所述第一表面,并一边喷射压缩空气一边抽吸气氛;或者

第二预处理机构,使用紫外线照射所述支撑体的所述第一表面。

10.根据权利要求7所述的制造装置,还包括预处理部,该预处理部包括:

第一预处理机构,使用超声波照射所述支撑体的所述第一表面,并一边喷射压缩空气一边抽吸气氛;以及

第二预处理机构,使用紫外线照射所述支撑体的所述第一表面。

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