[发明专利]光学传感器及光学感测系统有效

专利信息
申请号: 201911100073.7 申请日: 2015-02-03
公开(公告)号: CN111089612B 公开(公告)日: 2022-06-21
发明(设计)人: 许恩峯;刘家佑 申请(专利权)人: 原相科技股份有限公司
主分类号: G01D5/34 分类号: G01D5/34;G01C3/00;G06F3/01
代理公司: 北京润平知识产权代理有限公司 11283 代理人: 肖冰滨;王晓晓
地址: 中国台湾新竹科学*** 国省代码: 台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 光学 传感器 系统
【权利要求书】:

1.一种光学感测系统,包含:

两个光感测像素;

两个光栅元件,彼此之间具有相位差以衍射不同光强度并分别与所述两个光感测像素相对应,其中,所述两个光栅元件中每一者由至少两层金属层所构成,所述两个光栅元件其中一个光栅元件的所述两层金属层之间的横向距离不同于所述两个光栅元件其中另一个光栅元件的所述两层金属层之间的横向距离,所述不同的横向距离是通过固定所述至少两层金属层中的下层金属层与相对应光感测像素的相对横向位置以使所述至少两层金属层中的所述下层金属层与所述两个光感测像素均具有相同的横向位置并偏移所述至少两层金属层中的上层金属层与所述相对应光感测像素的相对横向位置以使所述至少两层金属层中的所述上层金属层与所述两个光感测像素分别具有不同的横向位置来完成,且所述下层金属层具有相同宽度;以及

处理器,用于根据所述两个光感测像素感测的光强度信号判断入射光角度。

2.根据权利要求1所述的光学感测系统,还包含至少一个滤光元件,该至少一个滤光元件位于所述两个光栅元件上方。

3.根据权利要求1所述的光学感测系统,其中所述处理器还用于根据所述两个光感测像素感测的两个光强度信号计算至少一个光强度参数。

4.根据权利要求3所述的光学感测系统,其中所述处理器还根据所述至少一个光强度参数计算物体距离。

5.根据权利要求3所述的光学感测系统,其中所述处理器还根据多个光强度参数的变化进行手势判断。

6.根据权利要求3所述的光学感测系统,其中所述处理器还通过追踪所述入射光计算物体的位置变化。

7.一种光学传感器,包含:

两个光感测像素;以及

两个光栅元件,彼此之间具有相位差以衍射不同光强度并分别与所述两个光感测像素相对应,其中,所述两个光栅元件中每一者包含两层金属层,所述两个光栅元件其中一个光栅元件的上层金属层与相邻的下层金属层之间的横向距离不同于所述两个光栅元件其中另一个光栅元件的所述上层金属层与相邻的下层金属层之间的横向距离,所述不同的横向距离是通过固定所述下层金属层与相对应光感测像素的相对横向位置以使所述两层金属层中的所述下层金属层与所述两个光感测像素均具有相同的横向位置并偏移所述上层金属层与所述相对应光感测像素的相对横向位置以使所述两层金属层中的所述上层金属层与所述两个光感测像素分别具有不同的横向位置来完成,且所述下层金属层具有相同宽度。

8.一种光学传感器,包含:

两个光感测像素;

两个光栅元件,彼此之间具有相位差以衍射不同光强度并分别与所述两个光感测像素相对应,其中,所述两个光栅元件中每一者由至少两层金属层所构成,所述两个光栅元件其中一个光栅元件的所述两层金属层之间的横向距离不同于所述两个光栅元件其中另一个光栅元件的所述两层金属层之间的横向距离,所述不同的横向距离是通过固定所述至少两层金属层中的下层金属层与相对应光感测像素的相对横向位置以使所述两层金属层中的所述下层金属层与所述两个光感测像素均具有相同的横向位置并偏移所述至少两层金属层中的上层金属层与所述相对应光感测像素的相对横向位置以使所述两层金属层中的所述上层金属层与所述两个光感测像素分别具有不同的横向位置来完成,且所述下层金属层具有相同宽度;以及

处理器,用于根据所述两个光感测像素感测的两个光强度信号计算至少一个光强度参数。

9.根据权利要求8所述的光学传感器,其中所述两个光感测像素与所述处理器形成在基底层中。

10.根据权利要求9所述的光学传感器,其中所述至少两层金属层形成于所述基底层上方。

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