[发明专利]一种胶槽机构及蘸胶装置

权利要求书

1.一种胶槽机构，包括：

储液槽，设有储液腔，用于储存胶液；

溢流槽，设置在储液槽内，用于对未蘸胶的胶板进行蘸胶，所述溢流槽内胶液可溢流至储液腔中；

导流通道，用于将储液腔的胶液导入到溢流槽中；

其特征在于：

所述导流通道上设置有第一导流驱动组件和第二导流驱动组件，其中

第一导流驱动组件，设置在导流通道内部，用于对导流通道内胶液进行搅拌并导流到溢流槽中；

第二导流驱动组件，设置在导流通道的两端，用于驱动胶液自储液槽导流到导流通道内。

2.根据权利要求1所述的胶槽机构，其特征在于：所述第一导流驱动组件为设置于导流通道内的沿导流通道纵向布置的第一导流件。

3.根据权利要求2所述的胶槽机构，其特征在于：所述第一导流件包括：

转动轴，沿导流通道轴向布置，所述转动轴至少一端与储液槽相连；

搅拌件，沿导流通道轴向安装于转动轴上并可随转动轴转动；

阻流件，垂直于转动轴分别安装于所述搅拌件的两端。

4.根据权利要求3所述的胶槽机构，其特征在于：所述两阻流件分别与搅拌件两端连接，其中两阻流件分别设置在搅拌件的上侧和下侧。

5.根据权利要求4所述的胶槽机构，其特征在于：所述搅拌件上设置有多个可供胶液通过的第一通孔结构。

6.根据权利要求5任一所述的胶槽机构，其特征在于：所述导流通道与溢流槽连接处设有导流区域，所述导流区域上设有供导流通道内胶液通过的第二通孔结构，所述搅拌件的长度不小于所述导流区域长度。

7.根据权利要求1-6任一所述的胶槽机构，其特征在于：还包括可将储液槽下部胶液导流至第二导流驱动组件内的两导流组件，所述两导流组件分别设置于导流通道两端的第二导流驱动组件外侧。

8.根据权利要求1-7任一所述的胶槽机构，其特征在于：所述胶槽机构具有两个溢流槽，所述储液腔截面为梯形，两溢流槽前后平行布置于所述储液腔内。

9.一种蘸胶装置，其特征在于，包括机架、蘸胶机构、和权利要求1-8任一所述的胶槽机构，所述机架上安装有所述胶槽机构，所述蘸胶结构包括设置于机架中的抬升结构和供胶板放置与移动的滑轨，所述滑轨位于储液槽上方并可在抬升结构带动下改变与储液槽的相对位置。

10.根据权利要求9所述的蘸胶装置，其特征在于：所述抬升结构包括与滑轨连接的支撑架和带动支撑架在机架内升降的驱动结构，所述驱动结构位于储液槽下方机架内。